講演名 1999/6/25
半導体基板スロット線路を用いたミリ波の光制御
ダナ ソーヴェン クマール, 堤 誠, 島崎 仁司,
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抄録(和) 半導体に現れる光プラズマ現象によるミリ波スロット線路の光制御特性について理論的ならびに実験約に検討した.まず半導体基板スロット線路におけるミリ波の位相ならびに減衰特性を光プラズマ密度の関数として理論的にスペクトル領域法を用いて数稙的に評価した.次に厚き600μmのシリコンまたはガリウム砒素基板を用いたミリ波スロット線路にLEDまたはレーザダイオードにより870nmの光を照射し,ミリ波の光制御特性の実験を35~50GHzの帯域で行った,その結果100mWの光電力で25dB以上のミリ波の振幡制御が可能であること,制御速度はガリウム砒素基板では20Wの光電力で5Ons,変調率20%以上であるこヒを明らかにした。おわりにこれらの高効率光制御特性はミリ波の短パルス光変調器としての応用に有効であることを述べた。
抄録(英) Efficient control of millimeter waves in a slot line on Si and GaAs substrate is discussed both theoretically and experimentally. The spectral domain method is used to estimate the propagation constant and the attenuation in the slot line as a function of the density of the optically induced Plasma. Experiments in the millimeter wave range of 35 GHz to 50 GHz are carried out using high resistivity Si and GaAs wafers with the dimension of 15 mm×30 mm×600μm. The slot-width is varied from 0.5 mm to 2 mm. The attention of millimeter waves of more than 25 dB can be controlled by optical means using LEDs with 870 nm wavelength and 100 mW of optical power. The experimental results agree considerably well with theory. The response of millimeter waves with pulsed optical illumination is also examined using a high power laser diode of 20 W optical power and pulse width less than 100 ns. High speed response due to optically induced plasma is confirmed for the slot line on GaAs substrate.
キーワード(和) ミリ波回路 / 光制御 / スロット線路 / 半導体基板 / 光プラズマ
キーワード(英) Optical control / millimeter wave circuit / slot line / semiconductor substrate / optically induced plasma
資料番号 MW99-44
発行日

研究会情報
研究会 MW
開催期間 1999/6/25(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Microwaves (MW)
本文の言語 ENG
タイトル(和) 半導体基板スロット線路を用いたミリ波の光制御
サブタイトル(和)
タイトル(英) Efficient Optical Control of Millimeter Waves Using Slot Line on Semiconductor Substrate
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) ミリ波回路 / Optical control
キーワード(2)(和/英) 光制御 / millimeter wave circuit
キーワード(3)(和/英) スロット線路 / slot line
キーワード(4)(和/英) 半導体基板 / semiconductor substrate
キーワード(5)(和/英) 光プラズマ / optically induced plasma
第 1 著者 氏名(和/英) ダナ ソーヴェン クマール / S. K. Dana
第 1 著者 所属(和/英) 京都工芸繊維大学工芸学部
Department of Electronics and Information Science, Kyoto Institute of Technology
第 2 著者 氏名(和/英) 堤 誠 / M. Tsutsumi
第 2 著者 所属(和/英) 京都工芸繊維大学工芸学部
Department of Electronics and Information Science, Kyoto Institute of Technology
第 3 著者 氏名(和/英) 島崎 仁司 / H. Shimasaki
第 3 著者 所属(和/英) 京都工芸繊維大学工芸学部
Department of Electronics and Information Science, Kyoto Institute of Technology
発表年月日 1999/6/25
資料番号 MW99-44
巻番号(vol) vol.99
号番号(no) 152
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日