| 講演名 | 1999/1/20 大規模LSI用集積化伝送線路の電磁界解析と光配線との比較 土居 武司, 岩田 穆, |
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| 抄録(和) | LSIの集積度向上とチップ面積の増加に伴って、配線遅延がLSIの性能を制限する重大な要因になっている。その対策として伝送線路を用いる方法がある。集積化伝送線路では配線特性の見積もりが重要である。本研究ではFDTD法による電磁界解析を用いて、集積化ストリップ線路の配線特性を計算し断面寸法を求めた。1GHz、配線長2cmの線路(配線:Al、層間膜:SiO_2)の断面寸法は、配線幅3μm、配線厚3μm、絶縁層厚3μm程度になる。配線特性の解析結果をもとに、1GHzにおけるRC線路・伝送線路・光配線の性能を比較した。遅延時間・消費電力において有利になる領域は、RCラインは5mm以下、集積化伝送線路は5mm～数cm、光配線は数cm以上の範囲と考えられる。配線の集積度はそれぞれ100本/mm、20本/mm、250本/mm程度になる。 |
| 抄録(英) | With the increase of integration scale and the chip size, interconnection delay on LSI chips has become one of the most important factors limiting performance. Using transmission line is a promising solution to overcome this limitation. For integrating the transmission line into LSI, the estimation of the characteristics is essential. By the electromagnetic analysis using the FDTD method, we calculated a relationship between the cross sectional size and characteristics of the transmission line that consist of aluminum wire and SiO_2 insulator. At 1 GHz, the wire width, the wire thickness and the insulator thickness of integrated stripline of 2 cm length amount to about 3 μm, 3 μm and 3 μm, respectively. Based on the results, the RC line, the transmission line and the optical waveguide were compared each other. The appropriate ranges of the interconnection length about the delay time and power dissipation are less than 5 mm for the RC line, 5 mm ～ several cm for the transmission line and over several cm for the optical waveguide. The line densities are about 100 lines/mm, 20 lines/mm, 250 lines/mm, respectively |
| キーワード(和) | 集積化伝送線路 / 集積化光導波路 / 差分時間領域法 / 配線遅延 / 消費電力 |
| キーワード(英) | integrated transmission line / integrated optical waveguide / FDTD method / delay / power dissipation |
| 資料番号 | ED98-192,MW98-155,ICD98-259 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | MW |
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| 開催期間 | 1999/1/20(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
| 委員長氏名（英） | |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Microwaves (MW) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 大規模LSI用集積化伝送線路の電磁界解析と光配線との比較 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Electromagnetic analisys of integrated transmission line and comparison of interconnection characteristics for transmission line and optical waveguide |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 集積化伝送線路 / integrated transmission line |
| キーワード(2)（和/英） | 集積化光導波路 / integrated optical waveguide |
| キーワード(3)（和/英） | 差分時間領域法 / FDTD method |
| キーワード(4)（和/英） | 配線遅延 / delay |
| キーワード(5)（和/英） | 消費電力 / power dissipation |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 土居 武司 / TAKESHI DOI |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 広島大学工学部 Department of Electrical Engineering, Hiroshima University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 岩田 穆 / ATSUSHI IWATA |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 広島大学工学部 Department of Electrical Engineering, Hiroshima University |
| 発表年月日 | 1999/1/20 |
| 資料番号 | ED98-192,MW98-155,ICD98-259 |
| 巻番号（vol） | vol.98 |
| 号番号（no） | 520 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 8 |
| 発行日 | |