講演名 1998/1/22
WSi/Tiベース電極を用いた絶縁膜埋め込み型微細InGap/GaAsHBT
岡 徹, 平田 宏治, 大内 潔, 内山 博幸, 望月 和浩, 中村 徹,
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抄録(和) InGaP/GaAs HBTを高速でかつ低電流で動作させるために, 素子のエミッタサイズおよびベースーコレクタ接合の寄生容量を大幅に低減することを試みた。寄生容量を低減するために, 外部コレクタ寄生領域を比誘電率の低い絶縁膜で埋め込んだ構造を用いた。またこの構造を容易に実現するため, ベース電極には加工性に優れたWSi/Tiを用いた。素子の性能としては, エミッタサイズS_E=0.6×4.6μmの素子においてコレクタ電流I_C=4mAで遮断周波数f_T=138GHz, 最大発振周波数f_=275GHzを, またS_E=0.3×1.6μmの素子ではI_C=1mAでf_T=96GHz, f_=197GHzをそれぞれ達成した。
抄録(英) We have developed high-performance InGaP/GaAs HBT's capable of high-speed as well as low-current operation: an HBT with an emitter size S_E of 0.6×4.6μm exhibited f_T of 138 GHz and f_ of 275GHz at I_C of 4mA; and an HBT with S_E of 0.3×1.6μm exhibited f_T of 96GHz and f_ of 197GHz at I_C of 1mA. This high performance is due to the simultaneous reduction of S_E and C_ by using WSi/Ti as the base electrode and by burying SiO_2 in the extrinsic collector.
キーワード(和) InGaP/GaAs HBT / 絶縁膜 / ベース電極
キーワード(英) InGaP/GaAs HBT / base electrode / SiO_2
資料番号 MW97-143
発行日

研究会情報
研究会 MW
開催期間 1998/1/22(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Microwaves (MW)
本文の言語 JPN
タイトル(和) WSi/Tiベース電極を用いた絶縁膜埋め込み型微細InGap/GaAsHBT
サブタイトル(和)
タイトル(英) InGaP/GaAs HBT's Fabricated Using WSi/Ti as the Base Electrode and Burying SiO_2 in the Extrinsic Collector
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) InGaP/GaAs HBT / InGaP/GaAs HBT
キーワード(2)(和/英) 絶縁膜 / base electrode
キーワード(3)(和/英) ベース電極 / SiO_2
第 1 著者 氏名(和/英) 岡 徹 / Tohru Oka
第 1 著者 所属(和/英) 株式会社 日立製作所 中央研究所
Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd.
第 2 著者 氏名(和/英) 平田 宏治 / Koji Hirata
第 2 著者 所属(和/英) 日立超LSIエンジニアリング株式会社
Hitachi ULSI Engineering Corp.
第 3 著者 氏名(和/英) 大内 潔 / Kiyoshi Ouchi
第 3 著者 所属(和/英) 株式会社 日立製作所 中央研究所
Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd.
第 4 著者 氏名(和/英) 内山 博幸 / Hiroyuki Uchiyama
第 4 著者 所属(和/英) 株式会社 日立製作所 中央研究所
Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd.
第 5 著者 氏名(和/英) 望月 和浩 / Kazuhiro Mochizuki
第 5 著者 所属(和/英) 株式会社 日立製作所 中央研究所
Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd.
第 6 著者 氏名(和/英) 中村 徹 / Tohru Nakamura
第 6 著者 所属(和/英) 株式会社 日立製作所 中央研究所
Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd.
発表年月日 1998/1/22
資料番号 MW97-143
巻番号(vol) vol.97
号番号(no) 478
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日