講演名 1997/6/13
プラスチック光集積回路の作製I
高橋 俊介, 藤井 賢一, 田口 耕造, 池田 正宏,
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抄録(和) プラスチック材料を使用し, 加工が容易で柔軟性のある大面積光集積回路ボードを目指して, プラスチック光導波路の作製を行った. 材料には, ポリイミド及びPMA/FM, PMMA等のプラスチック材料を使用した. 又, 光の通り道として最も重要となるコアの形成には微細加工技術であるフォトリソグラフィ及びドライエッチングを用いて行い, 光の導入出面の形成には, 従来の劈開やダイシングソーとは違い, コア形成時同様にドライエッチング技術を用いて, よりシャープな端面形成を行った. その結果ポリイミドもPMMAもドライエッチング技術を用いて, 大面積光集積回路を作成できることが分かった.
抄録(英) Fabrication technology using dry etching and photo lithography for large scale photonic integrated circuits using polymer material is reported. PMMA and Polyimide are used for the waveguide material. The input/output end was formed by using dry etching process instead of the conventional cleaving or dicing. Both of PMMA and Polyimide are verified to be used as materials for large scale photonic integrated circuits.
キーワード(和) 光集積回路 / プラスチック / ドライエッチング / フォトリソグラフィ
キーワード(英) Photonic Integrated Circuits / Polymer / Dry Etching / Photo Lithography
資料番号 MW97-41
発行日

研究会情報
研究会 MW
開催期間 1997/6/13(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Microwaves (MW)
本文の言語 JPN
タイトル(和) プラスチック光集積回路の作製I
サブタイトル(和)
タイトル(英) Fabrication of Polymer Integrated Photonic Circuits
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 光集積回路 / Photonic Integrated Circuits
キーワード(2)(和/英) プラスチック / Polymer
キーワード(3)(和/英) ドライエッチング / Dry Etching
キーワード(4)(和/英) フォトリソグラフィ / Photo Lithography
第 1 著者 氏名(和/英) 高橋 俊介 / Shunsuke Takahashi
第 1 著者 所属(和/英) 福山大学工学部電子電気工学科
Department of Electronics and Electrical Engineering, Fukuyama University
第 2 著者 氏名(和/英) 藤井 賢一 / Kenichi fujii
第 2 著者 所属(和/英) 福山大学工学部電子電気工学科
Department of Electronics and Electrical Engineering, Fukuyama University
第 3 著者 氏名(和/英) 田口 耕造 / Kozo Taguchi
第 3 著者 所属(和/英) 福山大学工学部電子電気工学科
Department of Electronics and Electrical Engineering, Fukuyama University
第 4 著者 氏名(和/英) 池田 正宏 / Masahiro Ikeda
第 4 著者 所属(和/英) 福山大学工学部電子電気工学科
Department of Electronics and Electrical Engineering, Fukuyama University
発表年月日 1997/6/13
資料番号 MW97-41
巻番号(vol) vol.97
号番号(no) 94
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日