講演名 | 2001/1/11 高バイアス動作GaAs高出力FP-HFET 松永 高治, 石倉 幸治, 竹中 功, 分島 彰男, 大田 一樹, 金森 幹夫, 葛原 正明, |
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抄録(和) | 移動体通信基地局用デバイスとして、フィールドプレート(FP)を有するL帯GaAsヘテロ構造FET(HFET)を開発した。単一セルFP-HFETでは、動作電圧40Vにおいて1.7W/mmという高い飽和出力密度が得られ、FP-HFETが高バイアス動作に適していることを示した。ゲート幅86.4mmのチップ4個で構成した増幅器は、周波数2.1GHz、動作電圧22Vにおいて、出力53.6dBm(230W)、PAE42%、線形利得11dBを示した。出力46dBmにおける隣接漏洩電圧(ACPR)とPAEはそれぞれ-35dBc、25%であり、高バイアス動作での優れた線形特性を示した。この増幅器の飽和出力密度0.67W/mmは、200W級デバイスの過去最高値である。 |
抄録(英) | This paper describes an L-band depletion-mode GaAs-based heterostructure FET (HFET) with a field-modulating plate (FP) for cellular base station applications. A one-cell FP-HFET demonstrated an output power density of 1.7W/mm at a drain bias of 40V, indicating strong potential for high voltage operation. An FP-HFET power amplifier, consisting of four 86.4mm gate-width chips, delivered a 53.6dBm (230W) output power at 2.1GHz with 11dB linear gain and 42% PAE operated at a drain bias of 22V. A low adjacent channel power ration (ACPR) of-35dBc with 25% PAE was obtained at an output power of 46dBm, indicating superior linearity characteristics under elevated drain bias conditions. The device also exhibited a record saturated power density of 0.67W/mm. |
キーワード(和) | GaAs HFET / フィールドプレート / マイクロ波 / 高出力電力 / 高動作電圧 / 低歪み |
キーワード(英) | GaAs HFET / field plate / microwave / high power / high bias / low distortion |
資料番号 | ED2000-226,MW2000-175,ICD2000-186 |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | ICD |
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開催期間 | 2001/1/11(から1日開催) |
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講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Integrated Circuits and Devices (ICD) |
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本文の言語 | ENG |
タイトル(和) | 高バイアス動作GaAs高出力FP-HFET |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | High Bias voltage Operation High Power GaAs FP-HFET |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | GaAs HFET / GaAs HFET |
キーワード(2)(和/英) | フィールドプレート / field plate |
キーワード(3)(和/英) | マイクロ波 / microwave |
キーワード(4)(和/英) | 高出力電力 / high power |
キーワード(5)(和/英) | 高動作電圧 / high bias |
キーワード(6)(和/英) | 低歪み / low distortion |
第 1 著者 氏名(和/英) | 松永 高治 / K. Matsunaga |
第 1 著者 所属(和/英) | NEC光・無線デバイス研究所 Photonic and Wireless Devices Research Laboratories NEC Corporation |
第 2 著者 氏名(和/英) | 石倉 幸治 / K. Ishikura |
第 2 著者 所属(和/英) | NEC化合物デバイス事業部 Compound Semiconductor Device Division NEC Corporation |
第 3 著者 氏名(和/英) | 竹中 功 / I. Takenaka |
第 3 著者 所属(和/英) | NEC化合物デバイス事業部 Compound Semiconductor Device Division NEC Corporation |
第 4 著者 氏名(和/英) | 分島 彰男 / A. Wakejima |
第 4 著者 所属(和/英) | NEC光・無線デバイス研究所 Photonic and Wireless Devices Research Laboratories NEC Corporation |
第 5 著者 氏名(和/英) | 大田 一樹 / K. Ota |
第 5 著者 所属(和/英) | NEC光・無線デバイス研究所 Photonic and Wireless Devices Research Laboratories NEC Corporation |
第 6 著者 氏名(和/英) | 金森 幹夫 / M. Kanamori |
第 6 著者 所属(和/英) | NEC化合物デバイス事業部 Compound Semiconductor Device Division NEC Corporation |
第 7 著者 氏名(和/英) | 葛原 正明 / M. Kuzuhara |
第 7 著者 所属(和/英) | NEC光・無線デバイス研究所 Photonic and Wireless Devices Research Laboratories NEC Corporation |
発表年月日 | 2001/1/11 |
資料番号 | ED2000-226,MW2000-175,ICD2000-186 |
巻番号(vol) | vol.100 |
号番号(no) | 554 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 6 |
発行日 |