講演名 2001/1/11
高バイアス動作GaAs高出力FP-HFET
松永 高治, 石倉 幸治, 竹中 功, 分島 彰男, 大田 一樹, 金森 幹夫, 葛原 正明,
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抄録(和) 移動体通信基地局用デバイスとして、フィールドプレート(FP)を有するL帯GaAsヘテロ構造FET(HFET)を開発した。単一セルFP-HFETでは、動作電圧40Vにおいて1.7W/mmという高い飽和出力密度が得られ、FP-HFETが高バイアス動作に適していることを示した。ゲート幅86.4mmのチップ4個で構成した増幅器は、周波数2.1GHz、動作電圧22Vにおいて、出力53.6dBm(230W)、PAE42%、線形利得11dBを示した。出力46dBmにおける隣接漏洩電圧(ACPR)とPAEはそれぞれ-35dBc、25%であり、高バイアス動作での優れた線形特性を示した。この増幅器の飽和出力密度0.67W/mmは、200W級デバイスの過去最高値である。
抄録(英) This paper describes an L-band depletion-mode GaAs-based heterostructure FET (HFET) with a field-modulating plate (FP) for cellular base station applications. A one-cell FP-HFET demonstrated an output power density of 1.7W/mm at a drain bias of 40V, indicating strong potential for high voltage operation. An FP-HFET power amplifier, consisting of four 86.4mm gate-width chips, delivered a 53.6dBm (230W) output power at 2.1GHz with 11dB linear gain and 42% PAE operated at a drain bias of 22V. A low adjacent channel power ration (ACPR) of-35dBc with 25% PAE was obtained at an output power of 46dBm, indicating superior linearity characteristics under elevated drain bias conditions. The device also exhibited a record saturated power density of 0.67W/mm.
キーワード(和) GaAs HFET / フィールドプレート / マイクロ波 / 高出力電力 / 高動作電圧 / 低歪み
キーワード(英) GaAs HFET / field plate / microwave / high power / high bias / low distortion
資料番号 ED2000-226,MW2000-175,ICD2000-186
発行日

研究会情報
研究会 ICD
開催期間 2001/1/11(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Integrated Circuits and Devices (ICD)
本文の言語 ENG
タイトル(和) 高バイアス動作GaAs高出力FP-HFET
サブタイトル(和)
タイトル(英) High Bias voltage Operation High Power GaAs FP-HFET
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) GaAs HFET / GaAs HFET
キーワード(2)(和/英) フィールドプレート / field plate
キーワード(3)(和/英) マイクロ波 / microwave
キーワード(4)(和/英) 高出力電力 / high power
キーワード(5)(和/英) 高動作電圧 / high bias
キーワード(6)(和/英) 低歪み / low distortion
第 1 著者 氏名(和/英) 松永 高治 / K. Matsunaga
第 1 著者 所属(和/英) NEC光・無線デバイス研究所
Photonic and Wireless Devices Research Laboratories NEC Corporation
第 2 著者 氏名(和/英) 石倉 幸治 / K. Ishikura
第 2 著者 所属(和/英) NEC化合物デバイス事業部
Compound Semiconductor Device Division NEC Corporation
第 3 著者 氏名(和/英) 竹中 功 / I. Takenaka
第 3 著者 所属(和/英) NEC化合物デバイス事業部
Compound Semiconductor Device Division NEC Corporation
第 4 著者 氏名(和/英) 分島 彰男 / A. Wakejima
第 4 著者 所属(和/英) NEC光・無線デバイス研究所
Photonic and Wireless Devices Research Laboratories NEC Corporation
第 5 著者 氏名(和/英) 大田 一樹 / K. Ota
第 5 著者 所属(和/英) NEC光・無線デバイス研究所
Photonic and Wireless Devices Research Laboratories NEC Corporation
第 6 著者 氏名(和/英) 金森 幹夫 / M. Kanamori
第 6 著者 所属(和/英) NEC化合物デバイス事業部
Compound Semiconductor Device Division NEC Corporation
第 7 著者 氏名(和/英) 葛原 正明 / M. Kuzuhara
第 7 著者 所属(和/英) NEC光・無線デバイス研究所
Photonic and Wireless Devices Research Laboratories NEC Corporation
発表年月日 2001/1/11
資料番号 ED2000-226,MW2000-175,ICD2000-186
巻番号(vol) vol.100
号番号(no) 554
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
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