| 講演名 | 2000/8/18 ED2000-136 / SDM2000-118 / ICD-2000-72 低誘電率膜を用いたCuデュアルダマシン配線の形成技術 山村 育弘, 長谷川 利昭, 池田 浩一, 徳永 和彦, 深沢 正永, 鬼頭 英至, 宮田 幸児, 駒井 尚紀, 田口 充, 平野 信介, 辰巳 徹也, 門村 新吾, |
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| 抄録(和) | 次世代の配線技術として期待される有機低誘電率絶縁膜(FLARE^ |
| 抄録(英) | Reliable Cu dual damascene(D.D.)interconnects with low-K(K_ |
| キーワード(和) | 銅配線 / デュアルダマシン / デュアルハードマスク / 有機低誘電率絶縁膜 / MSQ |
| キーワード(英) | Cu interconnects / Dual Damascene / Dual Hard Mask Method / Organic material / MSQ |
| 資料番号 | ED2000-136,SDM2000-118,ICD-2000-72 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ICD |
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| 開催期間 | 2000/8/18(から1日開催) |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Integrated Circuits and Devices (ICD) |
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| 本文の言語 | ENG |
| タイトル（和） | ED2000-136 / SDM2000-118 / ICD-2000-72 低誘電率膜を用いたCuデュアルダマシン配線の形成技術 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | ED2000-136 / SDM2000-118 / ICD-2000-72 Multilevel interconnects Technologies Using Cu and low-k Dielectrics |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 銅配線 / Cu interconnects |
| キーワード(2)（和/英） | デュアルダマシン / Dual Damascene |
| キーワード(3)（和/英） | デュアルハードマスク / Dual Hard Mask Method |
| キーワード(4)（和/英） | 有機低誘電率絶縁膜 / Organic material |
| キーワード(5)（和/英） | MSQ / MSQ |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 山村 育弘 / I. Yamamura |
| 第 1 著者 所属（和/英） | ソニー株式会社コアテクノロジー&ネットワークカンパニーLSI事業開発本部 LSI Business & Technology Development Group, C.N.C.Sony Corporation |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 長谷川 利昭 / T. Hasegawa |
| 第 2 著者 所属（和/英） | ソニー株式会社コアテクノロジー&ネットワークカンパニーLSI事業開発本部 LSI Business & Technology Development Group, C.N.C.Sony Corporation |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 池田 浩一 / K. Ikeda |
| 第 3 著者 所属（和/英） | ソニー株式会社コアテクノロジー&ネットワークカンパニーLSI事業開発本部 LSI Business & Technology Development Group, C.N.C.Sony Corporation |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 徳永 和彦 / K. Tokunaga |
| 第 4 著者 所属（和/英） | ソニー株式会社コアテクノロジー&ネットワークカンパニーLSI事業開発本部 LSI Business & Technology Development Group, C.N.C.Sony Corporation |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 深沢 正永 / M. Fukasawa |
| 第 5 著者 所属（和/英） | ソニー株式会社コアテクノロジー&ネットワークカンパニーLSI事業開発本部 LSI Business & Technology Development Group, C.N.C.Sony Corporation |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 鬼頭 英至 / H. Kito |
| 第 6 著者 所属（和/英） | ソニー株式会社コアテクノロジー&ネットワークカンパニーLSI事業開発本部 LSI Business & Technology Development Group, C.N.C.Sony Corporation |
| 第 7 著者 氏名（和/英） | 宮田 幸児 / K. Miyata |
| 第 7 著者 所属（和/英） | ソニー株式会社コアテクノロジー&ネットワークカンパニーLSI事業開発本部 LSI Business & Technology Development Group, C.N.C.Sony Corporation |
| 第 8 著者 氏名（和/英） | 駒井 尚紀 / N. Komai |
| 第 8 著者 所属（和/英） | ソニー株式会社コアテクノロジー&ネットワークカンパニーLSI事業開発本部 LSI Business & Technology Development Group, C.N.C.Sony Corporation |
| 第 9 著者 氏名（和/英） | 田口 充 / M. Taguchi |
| 第 9 著者 所属（和/英） | ソニー株式会社コアテクノロジー&ネットワークカンパニーLSI事業開発本部 LSI Business & Technology Development Group, C.N.C.Sony Corporation |
| 第 10 著者 氏名（和/英） | 平野 信介 / S. Hirano |
| 第 10 著者 所属（和/英） | ソニー株式会社コアテクノロジー&ネットワークカンパニーLSI事業開発本部 LSI Business & Technology Development Group, C.N.C.Sony Corporation |
| 第 11 著者 氏名（和/英） | 辰巳 徹也 / T. Tatsumi |
| 第 11 著者 所属（和/英） | ソニー株式会社コアテクノロジー&ネットワークカンパニーLSI事業開発本部 LSI Business & Technology Development Group, C.N.C.Sony Corporation |
| 第 12 著者 氏名（和/英） | 門村 新吾 / S. Kadomura |
| 第 12 著者 所属（和/英） | ソニー株式会社コアテクノロジー&ネットワークカンパニーLSI事業開発本部 LSI Business & Technology Development Group, C.N.C.Sony Corporation |
| 発表年月日 | 2000/8/18 |
| 資料番号 | ED2000-136,SDM2000-118,ICD-2000-72 |
| 巻番号（vol） | vol.100 |
| 号番号（no） | 270 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
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