| 講演名 | 2000/1/19 グレーティングモード型SAW共振器の製作法と電圧制御発振器への応用 浅井 健吾, 疋田 光孝, 礒部 敦, 住岡 淳司, 多田 剛, |
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| 抄録(和) | 高C / N, 広帯域VCOに用いる15°YX-LiNbO_3グレーティングモード型SAW共振器の最適な電極指形状を明らかにした。SAW共振器はレイリー波によるスプリアス応答等を完璧に抑圧する必要があるが、そのインピーダンス特性は電極指線幅、電極指膜厚の変動に対応して極めて敏感である。シミュレーションと実験から、電極指の変動を厳しく抑える加工精度が要求されることを示し、要求仕様を満足するためのプロセス高精度化の検討を行なった。電極指膜厚の厚い本SAW共振器においては、ホトレジスト工程に反射防止膜を導入し、電極指材料にはAl-Cu合金を用いることで良好なインピーダンス特性が得られることを示した。 |
| 抄録(英) | An optimum shape of electrode fingers for a new grating-mode-type SAW resonator used in a voltage controlled oscillator was examined. This SAW resonator requires suppression of spurious responses caused by Rayleigh-wave resonance, which strongly depends on electrode shapes. In order to improve deviations in the electrode width and thickness, we investigated two process techniques. One is an anti-reflective coating technique for the photolithography, and the other is Al-Cu for electrode material. SAW resonators fabricated by these process technologies were used in 170-MHz and 420-MHz VCO for professional-use radio terminals. |
| キーワード(和) | SAW共振器 / 電圧制御発振器 / グレーティングモード / レジスト / Al電極 |
| キーワード(英) | SAW resonator / voltage controlled oscillator / grating-mode-type / photolithography / Al-electrode |
| 資料番号 | ED99-267,MW99-191,ICD99-242 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | ICD |
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| 開催期間 | 2000/1/19(から1日開催) |
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| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Integrated Circuits and Devices (ICD) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | グレーティングモード型SAW共振器の製作法と電圧制御発振器への応用 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Fabrication method for grating-mode SAW resonator and application to VCO |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | SAW共振器 / SAW resonator |
| キーワード(2)（和/英） | 電圧制御発振器 / voltage controlled oscillator |
| キーワード(3)（和/英） | グレーティングモード / grating-mode-type |
| キーワード(4)（和/英） | レジスト / photolithography |
| キーワード(5)（和/英） | Al電極 / Al-electrode |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 浅井 健吾 / Kengo Asai |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 日立製作所中央研究所 Central Research Lab.Hitachi Ltd. |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 疋田 光孝 / Mitsutaka Hikita |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 日立製作所中央研究所 Central Research Lab.Hitachi Ltd. |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 礒部 敦 / Atsushi Isobe |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 日立製作所中央研究所 Central Research Lab.Hitachi Ltd. |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 住岡 淳司 / Atsushi Sumioka |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 日立電子 Hitachi Denshi Ltd. |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 多田 剛 / Takeshi Tada |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 日立デバイスエンジニアリング Hitachi Device Engineering Ltd. |
| 発表年月日 | 2000/1/19 |
| 資料番号 | ED99-267,MW99-191,ICD99-242 |
| 巻番号（vol） | vol.99 |
| 号番号（no） | 559 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 8 |
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