| 講演名 | 1999/8/26 モンテカルロイオン注入シミュレーションの効率的手法 金村 貴永, |
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| 抄録(和) | モンテカルロイオン注入シミュレーションを行なう際の効率的な粒子分割法を提案する。この手法では、ユーザが、分割数の代わりに、計算される濃度の下限値を入力する。このため、半導体素子設計を目的とした計算に都合が良い。また高濃度領域での分割が抑制されるので、計算時間が効率的に短縮できる。内製の1次元,2次元シミュレータにこの分割法を組込んだところ、所要時間が分割法を用いない場合の1/100-1/1000で済むことが分かった。 |
| 抄録(英) | An efficient trajectory split method for monte carlo ion implantation simulation is presented. This method permits users specify the lower limit of calculated concentration, instead of the splitting number. It is convenient for semiconductor device designers. In addition, since the split in high concentration region is suppressed, the calculation time is efficiently reduced. This method was implemented to the in-house ID and 2D simulator, and the required time was 1/100-1/1000, compared with non spliting case. |
| キーワード(和) | モンテカルロ / イオン注入シミュレーション / 統計ノイズ / 粒子分割法 |
| キーワード(英) | Monte Carlo / Jon Implantation Simulation / Statistical Noise / Trajectory Split Method |
| 資料番号 | ICD99-128 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ICD |
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| 開催期間 | 1999/8/26(から1日開催) |
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| 開催地（英） | |
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| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Integrated Circuits and Devices (ICD) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | モンテカルロイオン注入シミュレーションの効率的手法 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | An Efficient Method for Monte Carlo Ion Implantation Simulation |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | モンテカルロ / Monte Carlo |
| キーワード(2)（和/英） | イオン注入シミュレーション / Jon Implantation Simulation |
| キーワード(3)（和/英） | 統計ノイズ / Statistical Noise |
| キーワード(4)（和/英） | 粒子分割法 / Trajectory Split Method |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 金村 貴永 / takahisa kanemura |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 東芝 セミコンダクター社 マイクロエレクトロニクス技術研究所 Microelectronics Engineering Laboratory TOSHIBA Corporation Semiconductor Company |
| 発表年月日 | 1999/8/26 |
| 資料番号 | ICD99-128 |
| 巻番号（vol） | vol.99 |
| 号番号（no） | 265 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 8 |
| 発行日 | |