| 講演名 | 1999/7/23 ASETにおける半導体関係の研究開発、1999年 瀬戸屋 英雄, |
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| 抄録(和) | 技術研究組合超先端電子技術開発機構(ASET)は次々世代の電子技術の研究のために創設されたコンソーシアムであり、1996年以来、通産省の予算によりNEDOの委託を受けて研究開発を実施してきた。ASETでは、EB露光装置、ArF露光技術、X線等倍露光技術及びプラズマの理論解析等の研究を行ってきたが、1998年からX線縮少露光技術の研究をスタートさせた。また、1999年からはエッチングガスとしてのPFCの代替プロセスの研究及び先進的パッケージング技術の研究にも着手した。 |
| 抄録(英) | The Association of Super-Advanced Electronics Technologies (ASET) is a research consortium founded in 1996 to promote R & D studies of advanced electronics technologies for the next next generation. Since then by the contract with New Energy and Industrial Technology Development Organization (NEDO), ASET has carried out R & D research on semiconductor magnetic storage and liquid crystal. ASET semiconductor research include lithography, plasma diagnostics and cleaning technology in the first place. The lithography activity has covered EB writers, ArF lithography and Proximity Xray lithography for 3 years. Last year ASET initiated the study of Extreme Ultra Violet (EUV) lithography technology. ASET will also start Alternative Technology for Perfuluoro Compound which are widely used for etching process and Advanced Packaging Technology projects. |
| キーワード(和) | リソグラフィー / エッチング / 実装 |
| キーワード(英) | Lithography / Etching / Packaging |
| 資料番号 | ED99-143 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ICD |
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| 開催期間 | 1999/7/23(から1日開催) |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Integrated Circuits and Devices (ICD) |
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| 本文の言語 | ENG |
| タイトル（和） | ASETにおける半導体関係の研究開発、1999年 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | ASET Activities on the Semiconductor Research 1999 |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | リソグラフィー / Lithography |
| キーワード(2)（和/英） | エッチング / Etching |
| キーワード(3)（和/英） | 実装 / Packaging |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 瀬戸屋 英雄 / Hideo Setoya |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 技術研究組合超先端電子技術開発機構 ASET (Association of Super-Advanced Electronics Technologies) |
| 発表年月日 | 1999/7/23 |
| 資料番号 | ED99-143 |
| 巻番号（vol） | vol.99 |
| 号番号（no） | 234 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | |