| 講演名 | 1999/7/23 Hydrogen-Induced Degradation of Oxygen Plasma Treated Ferroelectric Pb (Zr,Ti)O_3 Capacitor , |
|---|---|
| PDFダウンロードページ | PDFダウンロードページへ |
| 抄録(和) | |
| 抄録(英) | Electron cyclotron resonance (ECR) oxygen plasma treatment of the Pt/Pb (Zr_xTi_<1-x>)O_3/Pt capacitor was attempted to reduce the property degradation due to hydrogen. It was found that oxygen plasma treatment using ECR modifies the surface of Pt electrodes. Surface modification deteriorates catalytic activity of Pt electrodes, thereby significantly improving ferroelectric properties such as remnant polarization and leakage current. It seems that highly reactive oxygen radicals in ECR plasma play an important role in deteriorating the catalytic activity of Pt electrodes. |
| キーワード(和) | |
| キーワード(英) | PZT / Pt / ECR oxygen plasma / H_2 annealing |
| 資料番号 | ICD99-123 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ICD |
|---|---|
| 開催期間 | 1999/7/23(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
| 委員長氏名（英） | |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Integrated Circuits and Devices (ICD) |
|---|---|
| 本文の言語 | ENG |
| タイトル（和） | |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Hydrogen-Induced Degradation of Oxygen Plasma Treated Ferroelectric Pb (Zr,Ti)O_3 Capacitor |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | / PZT |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | / Youngsoo Par |
| 第 1 著者 所属（和/英） | Microelectronics Laboratory, Samsung Advanced Institute of Technology |
| 発表年月日 | 1999/7/23 |
| 資料番号 | ICD99-123 |
| 巻番号（vol） | vol.99 |
| 号番号（no） | 234 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | |