| 講演名 | 1999/7/22 Optical Lithography for Sub-100nm Technology , |
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| 抄録(和) | |
| 抄録(英) | Optical lithography has driven by the miniaturisation of semiconductor devices and has been accompanied by an increase in wafer productivity and performance through the reduction of the IC image geometries. In the last three decades, DRAMs (Dynamic Random Access Memories) have been quadrupling in level of integration every three-year and even two year in recently. Optical lithography has been thriving thanks to evolution of optics and the other peripheral technology innovation. Optical lithography looks like never ending story for the semiconductors industry. The next century lithography will still be dominated by the optical lithography, such as 157nm and EUV. |
| キーワード(和) | |
| キーワード(英) | Optical lithography / 248nm / 193nm / 157nm / E-beam / EUV / Photoresist |
| 資料番号 | ICD99-75 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ICD |
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| 開催期間 | 1999/7/22(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Integrated Circuits and Devices (ICD) |
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| 本文の言語 | ENG |
| タイトル（和） | |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Optical Lithography for Sub-100nm Technology |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | / Optical lithography |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | / Ki-Ho Baik |
| 第 1 著者 所属（和/英） | Memory R&D Division, Hyundai Electronics Industries Co. Lid. |
| 発表年月日 | 1999/7/22 |
| 資料番号 | ICD99-75 |
| 巻番号（vol） | vol.99 |
| 号番号（no） | 233 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |