| 講演名 | 1998/1/21 超小型3次元MMIC用配線形成技術 杉谷 末広, 小野寺 清光, 青山 眞二, 平野 真, 山崎 王義, |
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| 抄録(和) | 従来の3次元MMIC用配線形成技術において不可能であった、ポリイミドの高速加工と任意の配線層間接続を可能とする新しい配線形成技術を開発した。本技術の特徴は、エッチングマスクに、選択性に優れたWSiメタルと、Wの飛散を抑制するためのSi含有レジストとから構成される二層マスクを用い、また、エッチング装置として、ポリイミドの高速エッチングが可能な誘導結合プラズマを用いたエッチング装置を用いたポリイミド加工法である。この技術を用い10μm厚のポリイミド中に任意の配線層間接続を含む3次元配線構造を良好に形成した。また、この技術の応用例として、新しいタイプの縦型インダクターを実現した。 |
| 抄録(英) | A novel fabrication technology has been developed for ultra-compact three-dimensional (3D) MMICs. The key feature is an advanced polyimide etching process using inductively-coupled-plasma (ICP) etching with a double-layer mask, which is WSi metal covered with Si-containing photoresist. The sophisticated 3D structure with many kinds of via has been successfully fabricated in 10-μm-thick of polyimide using this technology. A unique inductor with vertical structure has been successfully fabricated. As result, circuit designers can take advantage of smaller chip area and get higher performance and greater design flexibility in MMICs. |
| キーワード(和) | GaAs / MMIC / 3次元配線 / ポリイミド / エッチング / インダクター / VIA |
| キーワード(英) | GaAs / MMIC / 3D passive circuit / polyimide / etching / via / inductor |
| 資料番号 | ICD97-195 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ICD |
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| 開催期間 | 1998/1/21(から1日開催) |
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| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Integrated Circuits and Devices (ICD) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 超小型3次元MMIC用配線形成技術 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Novel Fabrication Technology for Ultra-Compact Three-Dimensional MMICs |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | GaAs / GaAs |
| キーワード(2)（和/英） | MMIC / MMIC |
| キーワード(3)（和/英） | 3次元配線 / 3D passive circuit |
| キーワード(4)（和/英） | ポリイミド / polyimide |
| キーワード(5)（和/英） | エッチング / etching |
| キーワード(6)（和/英） | インダクター / via |
| キーワード(7)（和/英） | VIA / inductor |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 杉谷 末広 / Suehiro Sugitani |
| 第 1 著者 所属（和/英） | NTTシステムエレクトロニクス研究所 NTT System Electronics Laboratories |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 小野寺 清光 / Kiyomitsu Onodera |
| 第 2 著者 所属（和/英） | NTTシステムエレクトロニクス研究所 NTT System Electronics Laboratories |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 青山 眞二 / Shinji Aoyama |
| 第 3 著者 所属（和/英） | NTTシステムエレクトロニクス研究所 NTT System Electronics Laboratories |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 平野 真 / Makoto Hirano |
| 第 4 著者 所属（和/英） | NTTシステムエレクトロニクス研究所 NTT System Electronics Laboratories |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 山崎 王義 / Kimiyoshi Yamasaki |
| 第 5 著者 所属（和/英） | NTTシステムエレクトロニクス研究所 NTT System Electronics Laboratories |
| 発表年月日 | 1998/1/21 |
| 資料番号 | ICD97-195 |
| 巻番号（vol） | vol.97 |
| 号番号（no） | 480 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 8 |
| 発行日 | |