| 講演名 | 1997/7/24 Simulated Performance of ArF Excimer Laser Lithography Optics , |
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| 抄録(和) | |
| 抄録(英) | In ArF excimer laser lithography, catadioptric systems are widely used as projection optics. We have designed and analyzed two systems consisting of a mirror, a polarizing beam splitter, quarter wave plates and corrector lenses. Combination of a polarizing beam splitter and a quarter wave plate is used to separate the forward and backward beam and to remove the central obscuration. The life time of optical systems are analyzed by using the energy density conversion factor. |
| キーワード(和) | |
| キーワード(英) | ArF excimer laser lithography / catadioptric system / life time / optical system. |
| 資料番号 | ICD97-58 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ICD |
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| 開催期間 | 1997/7/24(から1日開催) |
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| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Integrated Circuits and Devices (ICD) |
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| 本文の言語 | ENG |
| タイトル（和） | |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Simulated Performance of ArF Excimer Laser Lithography Optics |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | / ArF excimer laser lithography |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | / Hai Biri Chung |
| 第 1 著者 所属（和/英） | Semiconductor Tehnology Division, Electronics and Telecommunications Research Institute |
| 発表年月日 | 1997/7/24 |
| 資料番号 | ICD97-58 |
| 巻番号（vol） | vol.97 |
| 号番号（no） | 197 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 7 |
| 発行日 | |