講演名 2002/9/23
微細MOSトランジスタの逆狭チャネル効果の解析 : 高誘電体ゲート絶縁膜の影響(<特集>プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
若原 祥史, 大倉 康幸, 天川 博隆, 西 謙二,
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抄録(和) ゲート絶縁膜に高誘電体を用いたMOSFETの逆狭チャネル効果を調べた。実効膜厚EOTが同じでもゲート絶縁膜の誘電率が違えばフリンジ容量,物理膜厚が変わる.そのため逆狭チャネル効果も誘電率よって変わることを発見した.
抄録(英) We investigated the reverse narrow channel effect (RNCE) of high-K gate dielectric MOSFETs, and found that the RNCE depends on the fringe capacitance and the physical thickness of the gate dielectric. The RNCE depends on the permittivity of the gate dielectric.
キーワード(和) MOSFET / 逆狭チャネル効果 / 高誘電体ゲート絶縁膜 / EOT / フリンジ容量 / 物理膜厚
キーワード(英) MOSFET / reverse narrow channel effect / high-K gate dielectric / EOT / fringe capacitance / physical thickness
資料番号 SDM2002-170
発行日

研究会情報
研究会 SDM
開催期間 2002/9/23(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Silicon Device and Materials (SDM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 微細MOSトランジスタの逆狭チャネル効果の解析 : 高誘電体ゲート絶縁膜の影響(<特集>プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Analysis of The Reverse Narrow Channel Effect of Submicron MOSFETs : The Effects of The High-K Gate Dielectrics
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) MOSFET / MOSFET
キーワード(2)(和/英) 逆狭チャネル効果 / reverse narrow channel effect
キーワード(3)(和/英) 高誘電体ゲート絶縁膜 / high-K gate dielectric
キーワード(4)(和/英) EOT / EOT
キーワード(5)(和/英) フリンジ容量 / fringe capacitance
キーワード(6)(和/英) 物理膜厚 / physical thickness
第 1 著者 氏名(和/英) 若原 祥史 / Shoji WAKAHARA
第 1 著者 所属(和/英) (株)半導体先端テクノロジーズ
Semiconductor Leading Edge Technologies, Inc.
第 2 著者 氏名(和/英) 大倉 康幸 / Yasuyuki OHKURA
第 2 著者 所属(和/英) (株)半導体先端テクノロジーズ
Semiconductor Leading Edge Technologies, Inc.
第 3 著者 氏名(和/英) 天川 博隆 / Hirotaka AMAKAWA
第 3 著者 所属(和/英) (株)半導体先端テクノロジーズ
Semiconductor Leading Edge Technologies, Inc.
第 4 著者 氏名(和/英) 西 謙二 / Kenji NISHI
第 4 著者 所属(和/英) (株)半導体先端テクノロジーズ
Semiconductor Leading Edge Technologies, Inc.
発表年月日 2002/9/23
資料番号 SDM2002-170
巻番号(vol) vol.102
号番号(no) 346
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日