講演名 2001/6/30
Development of a RF Bipolar Transistor in a Standard 0.35μm CMOS Technology
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抄録(和)
抄録(英) A RF Bipolar Transistor integrated to a standard 0.35μm CMOS process is presented. This BiCMOS technology features a single-poly NPN transistor with simulated performance of ƒ_T=16GHz and BV_=6.4V. With implanted base and no trench isolation, this device offers full compatibility with standard CMOS technology at the cost of three additional mask layers, while demonstrates good performance compared to previously published BiCMOS technologies.
キーワード(和)
キーワード(英) 0.35μm CMOS Technology / RF Silicon Bipolar Transistor / cutoff frequency ƒ_T
資料番号 ED2001-100,SDM2001-107
発行日

研究会情報
研究会 SDM
開催期間 2001/6/30(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Silicon Device and Materials (SDM)
本文の言語 ENG
タイトル(和)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Development of a RF Bipolar Transistor in a Standard 0.35μm CMOS Technology
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) / 0.35μm CMOS Technology
第 1 著者 氏名(和/英) / I-Shan Michael Sun
第 1 著者 所属(和/英)
University of Toronto, Dept.of Elec.& Comp.Engineering
発表年月日 2001/6/30
資料番号 ED2001-100,SDM2001-107
巻番号(vol) vol.101
号番号(no) 165
ページ範囲 pp.-
ページ数 7
発行日