講演名 2001/6/30
AlGaN/GaN HEMTの高周波特性の温度依存性
水谷 孝, 秋田 光俊, 岸本 茂,
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抄録(和) AlGaN/GaN HEMTの高周波特性を室温から187℃までの温度範囲でSパラメータ測定により評価した。電流遮断周波数は温度の上昇とともに単調に減少し、室温で13.7GHz、187℃で8.7GHzであり35%の減少であった。遅延時間解析から求めたチャネル内の実効電子速度は室温で1.2x10^7cm/s、187℃で0.8x10^7cm/sであった。減少率は35%と遮断周波数と同じであり、遮断周波数の温度依存性は移動度ではなく電子速度の温度依存性で支配されていることを明らかにした。得られた電子速度の値がピーク速度(モンテカルロ計算)よりも小さいこと、速度の温度依存性がピーク速度の温度依存性よりも大きいことは、チャネルの電界がピーク電界に比べて小さいためであることで説明可能である。
抄録(英) High-frequency performance of the 1.3-μm-long-gate AlGaN/GaN HEMTs have been evaluated by S-parameter measurements at temperatures between 23 and 187℃. The cutoff frequency f_T decreased monotonically with increase in temperature. It was 13.7 and 8.7 GHz at 23 and 187℃, respectively. The effective electron velocities v_ in the channel evaluated by the total delay time analysis were 1.2 and 0.8 x 10^7 cm/s at 23 and 187℃, respectively. It has been shown that the temperature dependence of f_T is dominated by that of v_. The smaller effective electron velocity and its larger temperature dependence than the peak velocity obtained by Monte Carlo simulation was explained by the smaller electric field in the channel than the peak field.
キーワード(和) AlGaN HEMT / 温度依存性 / 高周波特性 / 電子速度
キーワード(英) AlGaN/GaN HEMT / temperature dependence / high-frequency performance / electron velocity
資料番号 ED2001-98,SDM2001-105
発行日

研究会情報
研究会 SDM
開催期間 2001/6/30(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Silicon Device and Materials (SDM)
本文の言語 ENG
タイトル(和) AlGaN/GaN HEMTの高周波特性の温度依存性
サブタイトル(和)
タイトル(英) Characterization of Temperature Dependence of High-Frequency Performance of AlGaN/GaN HEMTs
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) AlGaN HEMT / AlGaN/GaN HEMT
キーワード(2)(和/英) 温度依存性 / temperature dependence
キーワード(3)(和/英) 高周波特性 / high-frequency performance
キーワード(4)(和/英) 電子速度 / electron velocity
第 1 著者 氏名(和/英) 水谷 孝 / Takashi Mizutani
第 1 著者 所属(和/英) 名古屋大学工学研究科
Department of Quantum Engineering, Nagoya University
第 2 著者 氏名(和/英) 秋田 光俊 / Mitsutoshi Akita
第 2 著者 所属(和/英) 名古屋大学工学研究科
Department of Quantum Engineering, Nagoya University
第 3 著者 氏名(和/英) 岸本 茂 / Shigeru Kishimoto
第 3 著者 所属(和/英) 名古屋大学工学研究科
Department of Quantum Engineering, Nagoya University
発表年月日 2001/6/30
資料番号 ED2001-98,SDM2001-105
巻番号(vol) vol.101
号番号(no) 165
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日