| 講演名 | 2001/4/13 TFTの高性能化と課題 野口 隆, |
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| 抄録(和) | TFTの高性能化と課題に関して、デバイス構造と材料、プロセスの基本的な観点より論じる。ポリSi TFTは、積層型SRAMとして、またガラスなど任意の基板上LCDや、さらにELDなどの平面ディスプレイ駆動としても応用が盛んである。素子構造や結晶化法など製造プロセスの改善、信頼性評価などにより、移動度向上、リーク低減などの高性能化がすすんでいるが、素子の低電圧化、微細化の流れとともに、特性の均一性などの課題も生じてくる。素子高性能化と関連する課題に関して、実験報告結果をもとに示す。予測される課題を考慮し高性能化の研究をすすめることで、SOP時代へむけてのTFT技術のさらなる展開もより現実的に期待されてくると考えられる。 |
| 抄録(英) | TFT performance and relating subject are discussed from a viewpoint of device structure, material and fabrication process. Crystallized Si TFTs are applied not only to stacked SRAMs but also to displays such as LCD or ELD etc. by adopting a technique such as SPC or ELA. Although the improvement of device characteristics such as an enhancement of carrier mobility or a reduction of leakage current are under going, issues such as a uniformity of the device characteristics become more important relating to the reduction of driving voltage or the shrinkage of device size. The improvement of TFTs, a proposal for attaining the uniformity, relating fundamental result and/or its possibility are described. By settling the issues, coming SOP era using TFTs should be expected. |
| キーワード(和) | TFT / ポリSi / LCD / ELD / SPC / ELA / SOP |
| キーワード(英) | TFT / polySi / LCD / ELD / SPC / ELA / SOP |
| 資料番号 | ED2001-11,SDM2001-11 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
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| 開催期間 | 2001/4/13(から1日開催) |
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| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Silicon Device and Materials (SDM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | TFTの高性能化と課題 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | A High Performance TFT and its Subject |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | TFT / TFT |
| キーワード(2)（和/英） | ポリSi / polySi |
| キーワード(3)（和/英） | LCD / LCD |
| キーワード(4)（和/英） | ELD / ELD |
| キーワード(5)（和/英） | SPC / SPC |
| キーワード(6)（和/英） | ELA / ELA |
| キーワード(7)（和/英） | SOP / SOP |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 野口 隆 / Takashi NOGUCHI |
| 第 1 著者 所属（和/英） | |
| 発表年月日 | 2001/4/13 |
| 資料番号 | ED2001-11,SDM2001-11 |
| 巻番号（vol） | vol.101 |
| 号番号（no） | 17 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |