| 講演名 | 2000/10/13 金属表面フッ化不動態皮膜の形成と特性 泉 浩人, 菊永 芳弘, 川脇 理謁, 菊山 裕久, 櫻井 稔久, 大見 忠弘, |
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| 抄録(和) | フッ素ガスと金属表面との反応に関する研究は古くから行われていたが、形成するフッ化物皮膜を保護皮膜として扱った研究は少ない。半導体製造装置に使用されるステンレス鋼とアルミニウム材の表面とフッ素ガスとの反応を調査し、ステンレス鋼ではフッ化反応後の熱処理によりフッ素に対する耐性が現れた。またアルミニウム材とフッ素ガスとの反応では、材料に含まれるマグネシウムが反応に大きな影響を与えていることを明らかにした。 |
| 抄録(英) | We have studied the reaction fluorine with metal surface as a passivation film. It has been found that heat treatment after fluoridation on stainless steel surface is key technology, and the heat treated stainless steel surface after fluoridation has corrosion resistance to fluorine gas. It is become clear that magnesium contained aluminum alloy effect the reaction with fluorine, and the increasing magnesium concentration in aluminum alloy become high reaction rate with fluorine gas. Magnesium fluoride film formed on aluminum alloy surface by fluorine passivation, and the film has good resistance against to halogen gas. |
| キーワード(和) | フッ素ガス / フッ化処理 / 耐食性 / 表面処理 |
| キーワード(英) | Fluoridation / Fluorine / Passivation / Corrosion resistance |
| 資料番号 | SDM2000-149 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
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| 開催期間 | 2000/10/13(から1日開催) |
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| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Silicon Device and Materials (SDM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 金属表面フッ化不動態皮膜の形成と特性 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Fluorine Passivation Technology on metal surface |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | フッ素ガス / Fluoridation |
| キーワード(2)（和/英） | フッ化処理 / Fluorine |
| キーワード(3)（和/英） | 耐食性 / Passivation |
| キーワード(4)（和/英） | 表面処理 / Corrosion resistance |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 泉 浩人 / Hiroto Izumi |
| 第 1 著者 所属（和/英） | ステラケミファ株式会社 Stella Chemifa Corp. |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 菊永 芳弘 / Yoshihiro Kikunaga |
| 第 2 著者 所属（和/英） | ステラケミファ株式会社 Stella Chemifa Corp. |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 川脇 理謁 / Masatsugu Kawawaki |
| 第 3 著者 所属（和/英） | ステラケミファ株式会社 Stella Chemifa Corp. |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 菊山 裕久 / Hirohisa Kikuyama |
| 第 4 著者 所属（和/英） | ステラケミファ株式会社 Stella Chemifa Corp. |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 櫻井 稔久 / Toshihisa Sakurai |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 東北大学工学部電子工学科 Department of Electronics Engineering, Graduate school of Engineering, Tohoku University |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 大見 忠弘 / Tadahiro Ohmi |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 東北大学工学部電子工学科 Department of Electronics Engineering, Graduate school of Engineering, Tohoku University |
| 発表年月日 | 2000/10/13 |
| 資料番号 | SDM2000-149 |
| 巻番号（vol） | vol.100 |
| 号番号（no） | 374 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 8 |
| 発行日 | |