講演名 2000/6/21
ED2000-44 / SDM2000-44 A Study on the Characteristics of High Performance Self-Aligned Asymmetric Structure (SAAS)
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抄録(和)
抄録(英) A newly developed Self-Aligned Asymmetric Structure (SAAS) which has the asymmetric halo at the highly doped source extension has been designed and investigated for high performance and reliability. Proposed fabrication process for the asymmetric structure enables the source / drain and channel to be designed independently without additional masking steps. The hydrodynamic device simulation coupled with the process simulation shows that the highly doped asymmetric halo enhances velocity overshoot at source side and effectively suppresses short channel effects. The degradation of driving capability due to increased resistance in the highly doped asymmetric halo is effectively reduced by employing highly doped asymmetric source extension without sacrificing hot carrier reliability.
キーワード(和)
キーワード(英) Asymmetric structure / Self-aligned / Velocity overshoot / Device simulation
資料番号 ED2000-44,SDM2000-44
発行日

研究会情報
研究会 SDM
開催期間 2000/6/21(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Silicon Device and Materials (SDM)
本文の言語 ENG
タイトル(和)
サブタイトル(和)
タイトル(英) ED2000-44 / SDM2000-44 A Study on the Characteristics of High Performance Self-Aligned Asymmetric Structure (SAAS)
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) / Asymmetric structure
第 1 著者 氏名(和/英) / Chang-Soon Choi
第 1 著者 所属(和/英)
Department of Electrical and Computer Engineering, Yonsei University
発表年月日 2000/6/21
資料番号 ED2000-44,SDM2000-44
巻番号(vol) vol.100
号番号(no) 150
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日