講演名 2000/2/9
InGaAs量子細線FETから明瞭な負性抵抗の観察
金 成珍, 菅谷 武芳, 小倉 睦郎, 杉山 佳延,
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抄録(和) 50nmゲート長を有するInGaAs量子細線電界効果トランジスタ(QWR-FET)を電子線描画により作製し、トランジスタ特性を評価したところ明瞭なN-型負性抵抗(NDR)を見出した。負性抵抗の特性はPVR(peak-to-valley current ratio)が高く、なおかつ負性抵抗が起こるドレイン電圧(onset voltage;V_)が低いなど、従来報告されている負性抵抗デバイスより優れた特性を持つことが分かった。極めて低いV_や負性抵抗がゲート電圧に依存することから負性抵抗の起源はチャネルの電子が障壁層へトンネルすることにより起こるものである。QWR-FETの負性抵抗は量子井戸電界効果トランジスタ(QW-FET)の負性抵抗より優れた特性を示した。より短いチャネルやより細いチャネル幅を持つことにより負性抵抗特性が向上することが明らかになった。
抄録(英) N-shaped negative differential resistance (NDR) with high peak-to-valley current ratio (PVR) and low onset voltage (V_) are clearly observed in 50-nm gate ridge-type InGaAs/InAlAs quantum wire field-effect transistor (QWR-FET). The characteristic of NDR is improved more than that of previously reported NDR devices. The low onset voltage of NDR (V_) and its dependence on the gate voltage are attributed to the real space transfer of channel carriers into a barrier layer underneath the gate by field-assisted tunneling. The NDR characteristic of the QWR-FET is enhanced compared with that of InGaAs/InAlAs quantum well field-effect transistor (QW-FET). The narrower channel-width and shorter gate-length effectively improve in the PVR and V_.
キーワード(和) 量子細線 / 負性抵抗 / 実空間遷移 / 電界効果トランジスタ
キーワード(英) Quantum wire / Negative differential resistance / Real space transfer / FET
資料番号 ED99-304,SDM99-197
発行日

研究会情報
研究会 SDM
開催期間 2000/2/9(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Silicon Device and Materials (SDM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) InGaAs量子細線FETから明瞭な負性抵抗の観察
サブタイトル(和)
タイトル(英) Observation of N-shaped negative differential resistance in InGaAs quantum wire FET
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 量子細線 / Quantum wire
キーワード(2)(和/英) 負性抵抗 / Negative differential resistance
キーワード(3)(和/英) 実空間遷移 / Real space transfer
キーワード(4)(和/英) 電界効果トランジスタ / FET
第 1 著者 氏名(和/英) 金 成珍 / S.J. Kim
第 1 著者 所属(和/英) 電子技術総合研究所:NEDO:戦略基礎研究/科技団
ETL : NEDO : CREST, Japan Science and Technology Corporation
第 2 著者 氏名(和/英) 菅谷 武芳 / T. Sugaya
第 2 著者 所属(和/英) 電子技術総合研究所:戦略基礎研究/科技団
ETL : CREST, Japan Science and Technology Corporation
第 3 著者 氏名(和/英) 小倉 睦郎 / M. Ogura
第 3 著者 所属(和/英) 電子技術総合研究所:戦略基礎研究/科技団
ETL : CREST, Japan Science and Technology Corporation
第 4 著者 氏名(和/英) 杉山 佳延 / Y. Sugiyama
第 4 著者 所属(和/英) 電子技術総合研究所
ETL
発表年月日 2000/2/9
資料番号 ED99-304,SDM99-197
巻番号(vol) vol.99
号番号(no) 617
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日