講演名 | 2000/2/9 InGaAs量子細線FETから明瞭な負性抵抗の観察 金 成珍, 菅谷 武芳, 小倉 睦郎, 杉山 佳延, |
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抄録(和) | 50nmゲート長を有するInGaAs量子細線電界効果トランジスタ(QWR-FET)を電子線描画により作製し、トランジスタ特性を評価したところ明瞭なN-型負性抵抗(NDR)を見出した。負性抵抗の特性はPVR(peak-to-valley current ratio)が高く、なおかつ負性抵抗が起こるドレイン電圧(onset voltage;V_ |
抄録(英) | N-shaped negative differential resistance (NDR) with high peak-to-valley current ratio (PVR) and low onset voltage (V_ |
キーワード(和) | 量子細線 / 負性抵抗 / 実空間遷移 / 電界効果トランジスタ |
キーワード(英) | Quantum wire / Negative differential resistance / Real space transfer / FET |
資料番号 | ED99-304,SDM99-197 |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | SDM |
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開催期間 | 2000/2/9(から1日開催) |
開催地(和) | |
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幹事補佐氏名(和) | |
幹事補佐氏名(英) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Silicon Device and Materials (SDM) |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | InGaAs量子細線FETから明瞭な負性抵抗の観察 |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | Observation of N-shaped negative differential resistance in InGaAs quantum wire FET |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | 量子細線 / Quantum wire |
キーワード(2)(和/英) | 負性抵抗 / Negative differential resistance |
キーワード(3)(和/英) | 実空間遷移 / Real space transfer |
キーワード(4)(和/英) | 電界効果トランジスタ / FET |
第 1 著者 氏名(和/英) | 金 成珍 / S.J. Kim |
第 1 著者 所属(和/英) | 電子技術総合研究所:NEDO:戦略基礎研究/科技団 ETL : NEDO : CREST, Japan Science and Technology Corporation |
第 2 著者 氏名(和/英) | 菅谷 武芳 / T. Sugaya |
第 2 著者 所属(和/英) | 電子技術総合研究所:戦略基礎研究/科技団 ETL : CREST, Japan Science and Technology Corporation |
第 3 著者 氏名(和/英) | 小倉 睦郎 / M. Ogura |
第 3 著者 所属(和/英) | 電子技術総合研究所:戦略基礎研究/科技団 ETL : CREST, Japan Science and Technology Corporation |
第 4 著者 氏名(和/英) | 杉山 佳延 / Y. Sugiyama |
第 4 著者 所属(和/英) | 電子技術総合研究所 ETL |
発表年月日 | 2000/2/9 |
資料番号 | ED99-304,SDM99-197 |
巻番号(vol) | vol.99 |
号番号(no) | 617 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 6 |
発行日 |