講演名 1999/6/25
リング形状の外部ベースにコバルトシリサイドを適用した0.15μm/73GHzfmaxのRF対応BiCMOS技術
鈴木 久満, 吉田 宏, 木下 靖, 藤井 宏基, 山崎 亨, 田代 勉,
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抄録(和) 本論文ではアナログ/デジタル混載のRF対応0.15μm BiCMOSについて報告する。今回開発に成功した、0.15μm BiCMOSの最大の特徴は、シングルポリシリコン構造のホモ接合のバイポーラトランジスタにおいて、エミッタポリシリ引き出し電極に対し、リング状に形成した外部べ一ス拡散層の表面にコバルトシリサイドを適用した新規なトランジスタ構造を採用し、かつ、外部ベース拡散層の幅を0.1μmと極めて狭く設定することによって、BiCMOSのホモ接合のバイポーラトランジスタでSiGeバイポーラトランジスタ並の73GHzのfmaxを実現した。
抄録(英) This paper presents an advanced RF mixed-signal BiCMOS technology. A single-polysilicon bipolar transistor with a high maximum frequency of oscillation (f_) is successfully implemented into a 0.15μm dual gate CMOS process. To achieve such a bipolar transistor, a cobalt silicide (CoSi_2) ring-shaped extrinsic-base structure is newly developed. This bipolar transistor demonstrates 73 GHz f_, minimum noise figure (NF_) of 1.1 dB and a cut-off frequency emitter-to-collector break down voltage (f_T・BV_) products of 160 GHz・V, which is competitive with the previously reported SiGe-based technology.
キーワード(和) バイポーラトランジスタ / CMOS / コバルトシリサイド / BiCMOS / アナログ / デジタル
キーワード(英) Bipolar transistor / CMOS / cobalt silicide / BiCMOS / Analog / Digital
資料番号 SDM99-49
発行日

研究会情報
研究会 SDM
開催期間 1999/6/25(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Silicon Device and Materials (SDM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) リング形状の外部ベースにコバルトシリサイドを適用した0.15μm/73GHzfmaxのRF対応BiCMOS技術
サブタイトル(和)
タイトル(英) A 0.15-μm / 73GHz f_ RF BiCMOS Technology using Cobalt Silicide Ring Extrinsie-Base Structure
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) バイポーラトランジスタ / Bipolar transistor
キーワード(2)(和/英) CMOS / CMOS
キーワード(3)(和/英) コバルトシリサイド / cobalt silicide
キーワード(4)(和/英) BiCMOS / BiCMOS
キーワード(5)(和/英) アナログ / Analog
キーワード(6)(和/英) デジタル / Digital
第 1 著者 氏名(和/英) 鈴木 久満 / Hisamitsu Suzuki
第 1 著者 所属(和/英) NEC ULSIデバイス開発研究所
ULSI Device Development Laboratory, NEC Corporation
第 2 著者 氏名(和/英) 吉田 宏 / Hiroshi Yoshida
第 2 著者 所属(和/英) NEC ULSIデバイス開発研究所
ULSI Device Development Laboratory, NEC Corporation
第 3 著者 氏名(和/英) 木下 靖 / Yasushi Kinoshita
第 3 著者 所属(和/英) NEC ULSIデバイス開発研究所
ULSI Device Development Laboratory, NEC Corporation
第 4 著者 氏名(和/英) 藤井 宏基 / Hiroki Fujii
第 4 著者 所属(和/英) NEC ULSIデバイス開発研究所
ULSI Device Development Laboratory, NEC Corporation
第 5 著者 氏名(和/英) 山崎 亨 / Tohru Yamazaki
第 5 著者 所属(和/英) NEC ULSIデバイス開発研究所
ULSI Device Development Laboratory, NEC Corporation
第 6 著者 氏名(和/英) 田代 勉 / Tsutomu Tashiro
第 6 著者 所属(和/英) NEC ULSIデバイス開発研究所
ULSI Device Development Laboratory, NEC Corporation
発表年月日 1999/6/25
資料番号 SDM99-49
巻番号(vol) vol.99
号番号(no) 148
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日