| 講演名 | 1994/10/19 現像工程で発生するレジストパターン倒れの原因とその対策 田中 稔彦, 森上 光章, 老泉 博昭, 阿刀田 伸史, 内野 正市, 小川 太郎, 曽我 隆, |
|---|---|
| PDFダウンロードページ | PDFダウンロードページへ |
| 抄録(和) | 0.2μm以下のリソグラフィを行うとき特に問題となるレジストパターンの倒れについてその原因を調べ,また対策法を種々検討し,まとめた。パターン倒れはリンス液乾燥時に発生すること,及び凝集性の力がパターン間に作用していることから倒れの原因がリンス液の表面張力出あることを明かにした。低表面張力リンス液を用いた実験及び定量的検討からも表面張力が倒れの原因であることを確認した。倒れの対策法として7つの方法を提案し,低表面張力リンス,凍結乾燥法及びリンス液中レジスト硬化法でその効果を実験的に確認した。 |
| 抄録(英) | The mechanism of resist pattern collapse,which is a crucial problem in microlithography,is investigated,and the prevention methods of the collapse are proposed.Resist pattern collapse occurred in the rinse liquid drying process,and the force acting between patterns was cohesive.From these facts,it was led that the origin of the collapse force was surface tension of the rinse liquid.As resist pattern collapse prevention methods,low surface tension rinse,freeze drying and the resist hardening in rinse were proposed and the effectiveness of these methods was experimentally confirmed. |
| キーワード(和) | リソグラフィ / レジスト / 現像 / レジストパターン倒れ |
| キーワード(英) | Lithography / Resist / Development / Resist pattern collapse |
| 資料番号 | SDM94-108 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
|---|---|
| 開催期間 | 1994/10/19(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
| 委員長氏名（英） | |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Silicon Device and Materials (SDM) |
|---|---|
| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 現像工程で発生するレジストパターン倒れの原因とその対策 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Mechanism and prevention methods of resist pattern collapse |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | リソグラフィ / Lithography |
| キーワード(2)（和/英） | レジスト / Resist |
| キーワード(3)（和/英） | 現像 / Development |
| キーワード(4)（和/英） | レジストパターン倒れ / Resist pattern collapse |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 田中 稔彦 / Toshihiko Tanaka |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 日立製作所中央研究所 Central Research Laboratory,Hitachi |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 森上 光章 / Mitsuaki Morigami |
| 第 2 著者 所属（和/英） | ソルテック SORTEC |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 老泉 博昭 / Hiroaki Oizumi |
| 第 3 著者 所属（和/英） | ソルテック SORTEC |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 阿刀田 伸史 / Nobufumi Atoda |
| 第 4 著者 所属（和/英） | ソルテック SORTEC |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 内野 正市 / Shou-ichi Uchino |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 日立製作所中央研究所 Central Research Laboratory,Hitachi |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 小川 太郎 / Taro Ogawa |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 日立製作所中央研究所 Central Research Laboratory,Hitachi |
| 第 7 著者 氏名（和/英） | 曽我 隆 / Takashi Soga |
| 第 7 著者 所属（和/英） | 日立製作所中央研究所 Central Research Laboratory,Hitachi |
| 発表年月日 | 1994/10/19 |
| 資料番号 | SDM94-108 |
| 巻番号（vol） | vol.94 |
| 号番号（no） | 282 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 8 |
| 発行日 | |