| 講演名 | 1994/10/19 シリル化表面イメージング法を用いたArFエキシマレーザリソグラフィー 大藤 武, 相崎 尚昭, |
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| 抄録(和) | (抄録なし) |
| 抄録(英) | Physical optics is applied to the study of scattering problems in a mask projection system of LSI lithography.Two main aspects through image calculation are considered.One is a rigorous alternative to calculate mask diffraction in the conventional Fourier optics.The other is to provide a ray tracing method instead of the commonly used partially coherent theory.A widely- used physical optics has been intended to provide scattering fields in the source side of a diffraction obstacle.Optical lithography requires knowledge of scattering fields in the shadow side of a mask in which the separation of apertures is in the same order as wave-length.We modify the integration surface of physical optics and add some new interpretations from the successive approximations which lead to a ray tracing model for apupil aperture in the optical projection system.The image calculation procedure is presented including phase and polarization variations. A numerical example shows a resolution improvement by using a coherent light source of finite size. |
| キーワード(和) | 物理光学法 / 投影光学系 / マスク散乱 / ベクトル像 / リソグラフィ |
| キーワード(英) | physical optics / optical projection / mask diffraction / vector image / lithography |
| 資料番号 | SDM94-107 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
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| 開催期間 | 1994/10/19(から1日開催) |
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| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Silicon Device and Materials (SDM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | シリル化表面イメージング法を用いたArFエキシマレーザリソグラフィー |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | ArF Excimer Laser Lithography using Top Surface Imaging |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 物理光学法 / physical optics |
| キーワード(2)（和/英） | 投影光学系 / optical projection |
| キーワード(3)（和/英） | マスク散乱 / mask diffraction |
| キーワード(4)（和/英） | ベクトル像 / vector image |
| キーワード(5)（和/英） | リソグラフィ / lithography |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 大藤 武 / Takeshi Ohfuji |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 日本電気 NEC Corp. |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 相崎 尚昭 / Naoaki Aizaki |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 日本電気 NEC Corp. |
| 発表年月日 | 1994/10/19 |
| 資料番号 | SDM94-107 |
| 巻番号（vol） | vol.94 |
| 号番号（no） | 282 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |