講演名 1998/5/22
水素プラズマによるGaAs/Siのパッシベ-ション効果
王 鋼, 曽我 哲夫, 神保 孝志, 梅野 正義,
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抄録(和) MOCVDで成長したSi上のGaAs膜を水素プラズマで処理した。C-V、PL、DLTS測定により水素プラズマのパッシベ-ション効果を研究した。低温PL(4.2K)特性の改善を観察した。浅い不純物のパシベ-ション効果の他に、深い準位のパッシベ-ション効果も確認された。
抄録(英) The effects of plasma hydrogenation on the optical and electrical properties for GaAs-on-Si epitaxial layers characterized by I-V, PL, and DLTS methods. The hydrogenation provides a significant improvement of the PL properties. The deep level which is related to Si-defect complex was completely passivated, and the effect of the deep level passivation was still retained after annealing at 400℃ for 10 min. This suggests that the hydrogenation may be used to improve the properties of GaAs-on-Si devices.
キーワード(和) Si上のGaAs / 水素プラズマ / パッシベ-ション / C-V / PL / DLTS
キーワード(英) GaAs-on Si / H plasma / passivation / C-V / PL / DLTS
資料番号
発行日

研究会情報
研究会 SDM
開催期間 1998/5/22(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Silicon Device and Materials (SDM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 水素プラズマによるGaAs/Siのパッシベ-ション効果
サブタイトル(和)
タイトル(英) H Plasma passivation of MOCVD grown GaAs-on-Si
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) Si上のGaAs / GaAs-on Si
キーワード(2)(和/英) 水素プラズマ / H plasma
キーワード(3)(和/英) パッシベ-ション / passivation
キーワード(4)(和/英) C-V / C-V
キーワード(5)(和/英) PL / PL
キーワード(6)(和/英) DLTS / DLTS
第 1 著者 氏名(和/英) 王 鋼 / Gang Wang
第 1 著者 所属(和/英) 名古屋工業大学工学研究科電気情報工学専攻
Department of Electrical and Computer Engineering, Nagoya Institute of Tecnology
第 2 著者 氏名(和/英) 曽我 哲夫 / Tetsuo Soga
第 2 著者 所属(和/英) 名古屋工業大学工学研究科都市循環システム工学専攻
Department of Environmental Technology and Urbon Planning, Nagoya Institute of Tecnology
第 3 著者 氏名(和/英) 神保 孝志 / Takashi Jimbo
第 3 著者 所属(和/英) 名古屋工業大学工学研究科都市循環システム工学専攻
Department of Environmental Technology and Urbon Planning, Nagoya Institute of Tecnology
第 4 著者 氏名(和/英) 梅野 正義 / Masayoshi Umeno
第 4 著者 所属(和/英) 名古屋工業大学工学研究科電気情報工学専攻
Department of Electrical and Computer Engineering, Nagoya Institute of Tecnology
発表年月日 1998/5/22
資料番号
巻番号(vol) vol.98
号番号(no) 64
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日