講演名 1998/5/22
融液成長ZnSe結晶の格子定数の絶対測定 : Zn分圧下でのその場熱処理による格子定数の変化
鵜殿 治彦, 菊間 勲, 岡田 安正,
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抄録(和) 高圧炉を用いたZn分圧制御融液成長ZnSe結晶のその場熱処理による格子定数の変化についてBond法による絶対測定により評価した.結晶温度T_(A)=1000℃で熱処理した試料はas-grwon結晶の格子定数(0.566902±0.0000025nm)と比較した場合, 熱処理時のZn室温度が低い場合 (T_(A)<600℃) には格子定数は7x10^<-6>nm程度減少し, 高い場合 (T_(A)≧750℃) には格子定数が1.2x10^<-5>nm程増加した.またT_(A)=450℃の試料では密度が減少し, 高抵抗な結晶となった.これらの結果からZn室温度が低い場合には結晶中のZn空孔の増加が主要因になり, 格子定数の減少が生じたと考えられる.
抄録(英) We measured the absolute lattice parameters of in-situ ZnSe crystals grown from the melt by the Bond method. Lattice Parameters of annealed crystals at T_(A)=1000℃ changed from a Value of 0.566902±0.0000025nm in as-grown crystal and depended on the Zn reservoir temperature, T_(A). When crystals were annealed at low (T_(A)(<600℃), the lattice parameter decreased by 7x10^<-6>nm, whereas the lattice parameter increased by 1.2x10^<-5>nm at high T_(A)(≧750℃). When the crystal annealed at T_(A)=450℃, the volume density was decreased and the resistivity become high. These results suggest that the decrease of the lattice parameter at low T_(A) was due to increase of the Zn vacancy in the crystal.
キーワード(和) 格子定数 / Bond法 / ZnSe / 融液成長 / 密度 / 熱処理
キーワード(英) lattice parameter / Bond method / ZnSe / melt growth / density / anneal
資料番号
発行日

研究会情報
研究会 SDM
開催期間 1998/5/22(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Silicon Device and Materials (SDM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 融液成長ZnSe結晶の格子定数の絶対測定 : Zn分圧下でのその場熱処理による格子定数の変化
サブタイトル(和)
タイトル(英) Lattice Parameter of Melt Grown ZnSe Single Crystals by the Bond Method : Lattice Parameter Change in in-situ Annealed ZnSe Crystal
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 格子定数 / lattice parameter
キーワード(2)(和/英) Bond法 / Bond method
キーワード(3)(和/英) ZnSe / ZnSe
キーワード(4)(和/英) 融液成長 / melt growth
キーワード(5)(和/英) 密度 / density
キーワード(6)(和/英) 熱処理 / anneal
第 1 著者 氏名(和/英) 鵜殿 治彦 / Haruhiko Udono
第 1 著者 所属(和/英) 茨城大学工学部電気電子工学科
Dept.of Electrical & Electronics, Fac.of Engineering, IBARAKI Univ.
第 2 著者 氏名(和/英) 菊間 勲 / Isao Kikuma
第 2 著者 所属(和/英) 茨城大学工学部電気電子工学科
Dept.of Electrical & Electronics, Fac.of Engineering, IBARAKI Univ.
第 3 著者 氏名(和/英) 岡田 安正 / Yasumasa Okada
第 3 著者 所属(和/英) 電子技術総合研究所
Electrotechnical Laboratory
発表年月日 1998/5/22
資料番号
巻番号(vol) vol.98
号番号(no) 64
ページ範囲 pp.-
ページ数 8
発行日