| 講演名 | 1993/4/22 イソプロピルアルコールによる除電機構 : ウェットプロセスの静電気発生防止 須藤 誠司, 森永 均, 大見 忠弘, 三島 博之, |
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| 抄録(和) | 半導体製造環境での静電気の制御は製造歩留りに最も影響を与える要素の一つとなっている。ウェット工程での静電気対策としてはIPA(イソプロピルアルコール)による方法が現在注目されている。ウェハ洗浄後の乾燥方法としてIPA蒸気乾燥法を用いることにより、クリーンな乾燥が実現できるのみならず、帯電も完全に除去されることが実験的に明らかにされている。本研究においては、電荷量を直接測定するという定量的な評価方法を採用しIPAの除電特性の測定をおこなった。さらに、これらの結果よりIPAの除電機構を考察した。 |
| 抄録(英) | Achieving a clean manufacturing environment,static charge is one of the most important factor.Electrostatic discharge causes device destruction and circuit disconnection,additionally the problem of floating particle adhesion.In order to eliminate static charge build up in wet chemical processes,the IPA vapor drying method is the most effective.Using quantitative method for the direct measurement of static charge,the mechanism of static charge removal by IPA solution was studied. |
| キーワード(和) | 静電気 / IPA / IPA水溶液 / ウェットケミカル洗浄 / パーティクル吸着 / IPA蒸気 乾燥 |
| キーワード(英) | static charge / IPA / IPA solution / wet chemical process / particle adhesion / IPA vaper dryer |
| 資料番号 | SDM93-3 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
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| 開催期間 | 1993/4/22(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Silicon Device and Materials (SDM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | イソプロピルアルコールによる除電機構 : ウェットプロセスの静電気発生防止 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Static charge removal with IPA solution : Static charge prevention in wet chemical process |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 静電気 / static charge |
| キーワード(2)（和/英） | IPA / IPA |
| キーワード(3)（和/英） | IPA水溶液 / IPA solution |
| キーワード(4)（和/英） | ウェットケミカル洗浄 / wet chemical process |
| キーワード(5)（和/英） | パーティクル吸着 / particle adhesion |
| キーワード(6)（和/英） | IPA蒸気 乾燥 / IPA vaper dryer |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 須藤 誠司 / Seiji Sudoh |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 東北大学工学部電子工学科 Department of Electronics,Faculty of Engineering,Tohoku University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 森永 均 / Hitoshi Morinaga |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 東北大学工学部電子工学科 Department of Electronics,Faculty of Engineering,Tohoku University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 大見 忠弘 / Tadahiro Ohmi |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 東北大学工学部電子工学科 Department of Electronics,Faculty of Engineering,Tohoku University |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 三島 博之 / Hiroyuki Mishima |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 徳山曹達 Tokuyama Soda |
| 発表年月日 | 1993/4/22 |
| 資料番号 | SDM93-3 |
| 巻番号（vol） | vol.93 |
| 号番号（no） | 7 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 8 |
| 発行日 | |