| 講演名 | 1993/4/22 界面活性剤添加バッファードフッ酸によるシリコンウエハ表面のマイクロラフネス防止効果 宮本 光雄, 北 直英, 石田 彰一, 立野 稔夫, |
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| 抄録(和) | バッファードフッ酸中でのシリコンウエハ表面のマイクロラフネスの発生を数十ppmオーダの界面活性剤の添加により防止できることを明らかにした。マイクロラフネスの抑制効果は50ppmの添加量で充分であり、通常のプロセスにもそのまま適用できることが判った。界面活性剤の添加によるシリコンウエハ表面のマイクロラフネスの抑制は界面活性剤がシリコンの溶解を抑制している為で、バッファードフッ酸中のNH_4F濃度を下げることによってもマイクロラフネスを抑制できることが判った。さらに、通常のバッファードフッ酸中のNH_4F濃度を下げた場合の各種シリコン酸化膜のエッチング特性を明らかにした。 |
| 抄録(英) | It was realized that the generation of microroughness on Si wafer surface in buffered hydrogen fluoride(BHF) was prevented by several 10 ppm order addition of surfactant.It was founded that the suppression effect of microroughness was observed by 50 ppm surfactant addition.It was confirmed that the suppression effect of microroughness on Si wafer surface in BHF contained surfactant is owing to suppressing the dissolution of Si into BHF from Si wafer,and the microroughness was also suppressed by lowering NH_4F concentration in BHF.Moreover,the relation between the etching rate of various Si oxide filmes by conventional BHF and NH_4F concentration in BHF was investigated. |
| キーワード(和) | バッファードフッ酸 / 界面活性剤 / シリコンウエハ / マイクロラフネス / エッチング |
| キーワード(英) | Buffered hydrogen fluoride / Surfactant / Si wafer / Microroughness / Etching |
| 資料番号 | SDM93-2 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
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| 開催期間 | 1993/4/22(から1日開催) |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Silicon Device and Materials (SDM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 界面活性剤添加バッファードフッ酸によるシリコンウエハ表面のマイクロラフネス防止効果 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Prevention effect of microroughness on Si wafer surface in buffered hydrogen fluoride by surfactant addition |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | バッファードフッ酸 / Buffered hydrogen fluoride |
| キーワード(2)（和/英） | 界面活性剤 / Surfactant |
| キーワード(3)（和/英） | シリコンウエハ / Si wafer |
| キーワード(4)（和/英） | マイクロラフネス / Microroughness |
| キーワード(5)（和/英） | エッチング / Etching |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 宮本 光雄 / Mitsuo Miyamoto |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 森田化学工業 Morita Chemical Industries |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 北 直英 / Naohide Kita |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 森田化学工業 Morita Chemical Industries |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 石田 彰一 / Shoichi Ishida |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 森田化学工業 Morita Chemical Industries |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 立野 稔夫 / Toshio Tatsuno |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 森田化学工業 Morita Chemical Industries |
| 発表年月日 | 1993/4/22 |
| 資料番号 | SDM93-2 |
| 巻番号（vol） | vol.93 |
| 号番号（no） | 7 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |