| 講演名 | 1996/11/14 ウェハ洗浄溶液のラジカル活性に対する超音波照射の影響 加藤 正行, 落合 武臣, 都田 昌之, 大見 忠弘, |
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| 抄録(和) | メガソニック照射による超純水やウェハ洗浄溶液のラジカル活性をESRを用いて確認した. 超純水にメガソニックを照射するとHラジカルやOHラジカルが生成する. そのラジカル生成量は超純水中の溶存ガス成分とその溶解量に影響されることが明らかにされた. 同時に, イオン種や過酸化水素の新たな生成も認められた. 又, ウェハ洗浄溶液にメガソニックを照射するとOHラジカルが生成されることを確認し, OHラジカルの生成量に与える洗浄溶液濃度の影響を明らかにした. |
| 抄録(英) | Generation of radical species in the megasonic irradiated ultrapure water or wafer cleaning solutions was studied by using ESR measurement system. Megasonic irradiation to ultrapure water results in the formation of H and OH radicals, and it was also found that its quantities were influenced significantly by dissolved gases spices and its quantity. At the same time, the formation of ion spices or hydrogen peroxide were confirmed. OH radical was confirmed to be formed from the wafer cleaning solutions by megasonic irradiation and the effect of concentration of wafer cleaning solutions on OH radical formation was also clarified extensively. |
| キーワード(和) | ラジカル / メガソニック / 超純水 / ウェハ洗浄溶液 |
| キーワード(英) | Radical / Megasonic / Ultrapure water / Wafer cleaning solution |
| 資料番号 | SDM96-128 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
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| 開催期間 | 1996/11/14(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Silicon Device and Materials (SDM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | ウェハ洗浄溶液のラジカル活性に対する超音波照射の影響 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Effect of Sonication on Radical Activation in Wafer Cleaning Solutions |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | ラジカル / Radical |
| キーワード(2)（和/英） | メガソニック / Megasonic |
| キーワード(3)（和/英） | 超純水 / Ultrapure water |
| キーワード(4)（和/英） | ウェハ洗浄溶液 / Wafer cleaning solution |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 加藤 正行 / Masayuki Kato |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 山形大学工学部物質工学科 Department of Materials Science and Engineering, Faculty of Engineering Yamagata University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 落合 武臣 / Takenori Ochiai |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 山形大学工学部物質工学科 Department of Materials Science and Engineering, Faculty of Engineering Yamagata University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 都田 昌之 / Masayuki Toda |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 山形大学工学部物質工学科 Department of Materials Science and Engineering, Faculty of Engineering Yamagata University |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 大見 忠弘 / Tadahiro Ohmi |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 東北大学工学部電子工学科 Department of Electromic Engineering, Faculty of Engineering Tohoku University |
| 発表年月日 | 1996/11/14 |
| 資料番号 | SDM96-128 |
| 巻番号（vol） | vol.96 |
| 号番号（no） | 359 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 8 |
| 発行日 | |