| 講演名 | 1996/11/1 異常グロー放電を用いたkeV領域X線源 佐藤 謙一, 深尾 正之, |
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| 抄録(和) | 簡便なkeV領域のX線源の開発を目指している。これまで、zピンチがこの目的で研究されてきた。ここでは、古典的な電子ビーム・ターゲット方を再検討した。この方法では、X線への変換効率は低いが、安定な動作が期待され、また目的に応じたエネルギー強度から装置の大きさを自由に選ぶことができる。低エネルギー大電流電子ビームの生成は、冷陰極異常グロー放電によって解決できた。最大の課題は、線源の広がりを抑えながらターゲットの冷却を如何にするかである。 |
| 抄録(英) | This study aims to develop a compact X-ray source in keV range. Z-pinch gas been studied for the purpose. We reexamine a classical method consisting of electron beam and metal target here. Although the conversion efficiency to X-ray is low, stable operation is expected and the device size canbe freely chosen according to the required energy and yield. Low energy high current density electron beam can be realized by using abnormal glow discharge. How to cool the target under suppressing the spread of source area is the crucial problems. |
| キーワード(和) | keV領域X線 / 異常グロー放電 / ブラシュカソード / ターゲットの冷却 |
| キーワード(英) | X-ray in keV range / abnormal glow discharge / brush cathode / how to cool the target |
| 資料番号 | SDM96-111 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
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| 開催期間 | 1996/11/1(から1日開催) |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Silicon Device and Materials (SDM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 異常グロー放電を用いたkeV領域X線源 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | X-ray source in keV range by abnormal glow discharge |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | keV領域X線 / X-ray in keV range |
| キーワード(2)（和/英） | 異常グロー放電 / abnormal glow discharge |
| キーワード(3)（和/英） | ブラシュカソード / brush cathode |
| キーワード(4)（和/英） | ターゲットの冷却 / how to cool the target |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 佐藤 謙一 / Ken-ichi Sato |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 静岡大学工学部電気電子工学科 Dept. of Electric and Electronic Eng. Shizuoka University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 深尾 正之 / Masayuki Fukao |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 静岡大学工学部電気電子工学科 Dept. of Electric and Electronic Eng. Shizuoka University |
| 発表年月日 | 1996/11/1 |
| 資料番号 | SDM96-111 |
| 巻番号（vol） | vol.96 |
| 号番号（no） | 344 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 8 |
| 発行日 | |