| 講演名 | 1996/11/1 サイクロトロン共鳴質量分析器を用いたCF4磁化プラズマ中正負イオンの同時測定 河合 了一, 三重野 哲, |
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| 抄録(和) | CF_4ガスにおける磁化プラズマ中正負イオンの組成を、サイクロトロン共鳴質量分析器を用いてその場測定することができた。そして、各種活性イオン密度のプラズマ条件依存性を明らかにした。磁化プラズマの周辺部分では高密度のF^-負イオンの分布が見られ、電子密度よりも高い値を示している。CF_4ガス圧力や放電電流と共にF^-負イオン密度が増大していく。 |
| 抄録(英) | Mass distribution of negative ions and positive ions in CF_4 magnetized plasma is in-situ measured successfully by a cyclotron resonance mass spectrometer. Plasma parameter dependence of various kinds of ionic radicals are elucidated by this method. Especially, F negative ions tend to concentrate around plasma periphery and their density exceed electron density. F negative ions increase with CF_4 gas pressure and plasma discharge current. |
| キーワード(和) | サイクロトロン共鳴質量分析 / 負イオン / ふっ化炭素ガス / 磁化プラズマ / プラズマプロセス / ふっ素 |
| キーワード(英) | Cyclotron resonance mass spectrometry / Negative ion / Fluorocarbon gas / Magnetized plasma / Plasma processing / Fluorine |
| 資料番号 | SDM96-109 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
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| 開催期間 | 1996/11/1(から1日開催) |
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| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Silicon Device and Materials (SDM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | サイクロトロン共鳴質量分析器を用いたCF4磁化プラズマ中正負イオンの同時測定 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | In-situ Measurement of Negative and Positive Ions in CF4 Magnetized Plasma By Use of a Cyclotron Resonance Mass Spectrometer |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | サイクロトロン共鳴質量分析 / Cyclotron resonance mass spectrometry |
| キーワード(2)（和/英） | 負イオン / Negative ion |
| キーワード(3)（和/英） | ふっ化炭素ガス / Fluorocarbon gas |
| キーワード(4)（和/英） | 磁化プラズマ / Magnetized plasma |
| キーワード(5)（和/英） | プラズマプロセス / Plasma processing |
| キーワード(6)（和/英） | ふっ素 / Fluorine |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 河合 了一 / Ryoichi Kawai |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 静岡大学理学部物理学科 Department of Physics, Shizuoka University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 三重野 哲 / Tetsu Mieno |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 静岡大学理学部物理学科 Department of Physics, Shizuoka University |
| 発表年月日 | 1996/11/1 |
| 資料番号 | SDM96-109 |
| 巻番号（vol） | vol.96 |
| 号番号（no） | 344 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | |