講演名 | 1997/11/21 ダウンフロープロセスの電子ビーム描画装置材料への影響 下村 尚治, 小笠原 宗博, 大歳 研司, 山崎 聡, 福留 裕二, 平野 亮一, 玉虫 秀一, 東條 徹, 滝川 忠宏, |
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抄録(和) | 電子ビーム (EB) 描画装置でin situ洗浄を行なうにあたり、装置内で用いる材料への洗浄の影響を調べる実験を行なった。洗浄による試料からのダストの発生を調べ、酸化膜形成によるチャージアップ量の測定を行なった。AgとBeCu表面からは洗浄によりダストの発生が観察された。Ti、Cu、BeCu (金メッキ)、Au、Al、Al (金メッキ)、Al (Niメッキ)、Ptではダストの発生は観察されなかった。一方、AuおよびTi電極ではビームドリフトは小さかったが、Niメッキ電極を使った場合は大きなビームドリフトがあった。 |
抄録(英) | In order to search for an appropriate material for an electron beam (EB) system to which in situ cleaning is applied, we investigated particle generation due to the cleaning process and beam drift due to charging of the processed electrodes. Particles are generated on the surfaces of Ag and BeCu. Particle generation is not observed on the surfaces of Ti, Cu, BeCu (Au-plated), Au, Al, Al (Au-plated), Al (Ni plated) and Pt. The beam drift is small when Au and Ti electrodes are used and large when Ni plated electrodes are used. |
キーワード(和) | 電子ビーム描画装置 / ダウンフロー洗浄 / ダスト / チャージアップ |
キーワード(英) | electron beam system / down-flow cleaning process / particle / charging |
資料番号 | SDM97-157 |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | SDM |
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開催期間 | 1997/11/21(から1日開催) |
開催地(和) | |
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テーマ(和) | |
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幹事補佐氏名(和) | |
幹事補佐氏名(英) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Silicon Device and Materials (SDM) |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | ダウンフロープロセスの電子ビーム描画装置材料への影響 |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | The Effect of Down-Flow Cleaning Process on Materials Used in an EB System |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | 電子ビーム描画装置 / electron beam system |
キーワード(2)(和/英) | ダウンフロー洗浄 / down-flow cleaning process |
キーワード(3)(和/英) | ダスト / particle |
キーワード(4)(和/英) | チャージアップ / charging |
第 1 著者 氏名(和/英) | 下村 尚治 / Naoharu Shimomura |
第 1 著者 所属(和/英) | (株)東芝 Toshiba Corp. |
第 2 著者 氏名(和/英) | 小笠原 宗博 / Munehiro Ogasawara |
第 2 著者 所属(和/英) | (株)東芝 Toshiba Corp. |
第 3 著者 氏名(和/英) | 大歳 研司 / Kenji Ohtoshi |
第 3 著者 所属(和/英) | 東芝機械(株) Toshiba Machine Co., Ltd. |
第 4 著者 氏名(和/英) | 山崎 聡 / Satoshi Yamasaki |
第 4 著者 所属(和/英) | 東芝機械(株) Toshiba Machine Co., Ltd. |
第 5 著者 氏名(和/英) | 福留 裕二 / Yuji Fukudome |
第 5 著者 所属(和/英) | (株)東芝 Toshiba Corp. |
第 6 著者 氏名(和/英) | 平野 亮一 / Ryoichi Hirano |
第 6 著者 所属(和/英) | 東芝機械(株) Toshiba Machine Co., Ltd. |
第 7 著者 氏名(和/英) | 玉虫 秀一 / Shuichi Tamamushi |
第 7 著者 所属(和/英) | 東芝機械(株) Toshiba Machine Co., Ltd. |
第 8 著者 氏名(和/英) | 東條 徹 / Toru Tojo |
第 8 著者 所属(和/英) | 東芝機械(株) Toshiba Machine Co., Ltd. |
第 9 著者 氏名(和/英) | 滝川 忠宏 / Tadahiro Takigawa |
第 9 著者 所属(和/英) | (株)東芝 Toshiba Corp. |
発表年月日 | 1997/11/21 |
資料番号 | SDM97-157 |
巻番号(vol) | vol.97 |
号番号(no) | 393 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 6 |
発行日 |