| 講演名 | 1997/8/25 非接触型液質計による溶液の評価 外塚 聖享, 都田 昌之, 白井 宏, 江原 勝夫, 原田 康之, |
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| 抄録(和) | 超純水や腐食性のHFを使用するUCT洗浄プロセスにおいて、洗浄溶液の評価はクリーンなウエハ表面を実現する上に極めて重要である。しかし、従来の電極を使用し、調製された洗浄溶液を評価すれば、いずれ電極の劣化やそれに起因する洗浄溶液の汚染などが懸念される。そこで、リング電極と単層巻コイルから構成される、測定用電極の劣化の伴わない測定計の開発を試みた。本研究では、この検出器について種々の溶液を用いて詳細な実験を行い、その検出特性につて検討を加えた。その結果、この検出器は共振回路を形成し、溶液の誘電率、導電率および透磁率に応じた共振曲線を与える特性のあることが分かった。また、腐食性の洗浄溶液の濃度測定が可能であることも示唆された。 |
| 抄録(英) | In UCT cleaning process, which has been proposed by Ohmi (1996), the evaluation of quality of cleaning solutions such as ultrapure water, diluted corrosive HF and so on was very important to realize the clean surface of silicon wafer in its process. Supposing the quality of prepared cleaning solutions was evaluated by convensional electrodes, the chemical cleaning solutions should be contaminated by deteriorated electrodes. Thus, new detection electrode without deteriorating, which was composed of ring electrodes and single layer winding coil, was developed by Ehara & Harada. In this study, the fundamental characteristics of this detector was investigated extensively by using of various chemical solutions, In the result, the performance of this new detector was represented by resonance circuit models, and the characteristic resonance curves corresponding with each of dielectric constant, electric conductivity and magnetic permeability were obtained. Moreover, the concentration of corrosive cleaning solution was measured continuously. |
| キーワード(和) | ウエハ洗浄 / 溶液評価 / 共振回路 / 誘電率 / 導電率 / 透磁率 |
| キーワード(英) | Wafer cleaning / Evaluation of solution / Resonance circuit / Dielectric constant / Electric conductivity / Magnetic permeability |
| 資料番号 | SDM97-87 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
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| 開催期間 | 1997/8/25(から1日開催) |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Silicon Device and Materials (SDM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 非接触型液質計による溶液の評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Evaluation of chemical solutions by non-destructive detection meter |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | ウエハ洗浄 / Wafer cleaning |
| キーワード(2)（和/英） | 溶液評価 / Evaluation of solution |
| キーワード(3)（和/英） | 共振回路 / Resonance circuit |
| キーワード(4)（和/英） | 誘電率 / Dielectric constant |
| キーワード(5)（和/英） | 導電率 / Electric conductivity |
| キーワード(6)（和/英） | 透磁率 / Magnetic permeability |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 外塚 聖享 / Kiyotaka Tozuka |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 山形大学工学部物質工学科 Department of Materials Science and Engineering, Faculty of Engineering, Yamagata University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 都田 昌之 / Masayuki Toda |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 山形大学工学部物質工学科 Department of Materials Science and Engineering, Faculty of Engineering, Yamagata University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 白井 宏 / Hiroshi Shirai |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 中央大学理工学部電気電子工学科 Department of Electrical and Electronical Engineering, Faculty of Engineering, Chuo University |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 江原 勝夫 / Katuo Ehara |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 東京工業大学工学部高分子工学科 Department of Polymer Engineering, Faculty of Engineering, Tokyo Institute of Technology |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 原田 康之 / Yasuyuki Harada |
| 第 5 著者 所属（和/英） | (株)プレッテク PRE-TECH CO., LTD. |
| 発表年月日 | 1997/8/25 |
| 資料番号 | SDM97-87 |
| 巻番号（vol） | vol.97 |
| 号番号（no） | 239 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 8 |
| 発行日 | |