講演名 | 1997/6/20 ソースドレイン領域選択成長pチャネルHJFETの試作と評価 古畑 直規, 浅井 周二, 前多 正, 藤井 正浩, 大野 泰夫, |
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抄録(和) | ソースドレイン領域をMOMBE p^+-GaAs選択成長で形成したpチャネルHJFETの試作と評価を行った. バリア層として高Al組成(0.75)のi-AlGaAs, チャネル層として2×10^<18>cm^<-3>のp-GaAsを用いた. デバイス特性は, 0.5μmゲート長でgm_ |
抄録(英) | This paper reports on performance of 0.5μm gate p-channel HJFET for GaAs complementary ICs. The device structure consists of i-Al_<0.75>Ga_<0.25>As barrier layer, p-GaAs(2×10^<18>cm^<-3>) channel layer and p^+-GaAs(2×10^<20>cm^<-3>) contact layers. The contact layers were selectively grown by MOMBE. This device achieved gm_ |
キーワード(和) | GaAsコンプリメンタリIC / pチャネルHJFET / MOMBE / SPICE / 低消費電力 |
キーワード(英) | GaAs complementary ICs / p-channel HJFET / MOMBE / SPICE / low power consumption |
資料番号 | ED97-63 |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | SDM |
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開催期間 | 1997/6/20(から1日開催) |
開催地(和) | |
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テーマ(英) | |
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幹事補佐氏名(和) | |
幹事補佐氏名(英) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Silicon Device and Materials (SDM) |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | ソースドレイン領域選択成長pチャネルHJFETの試作と評価 |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | Performance of p-channel HJFET with Selectively Grown Contact Layers |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | GaAsコンプリメンタリIC / GaAs complementary ICs |
キーワード(2)(和/英) | pチャネルHJFET / p-channel HJFET |
キーワード(3)(和/英) | MOMBE / MOMBE |
キーワード(4)(和/英) | SPICE / SPICE |
キーワード(5)(和/英) | 低消費電力 / low power consumption |
第 1 著者 氏名(和/英) | 古畑 直規 / Naoki FURUHATA |
第 1 著者 所属(和/英) | NEC光エレクトロニクス研究所 NEC Opto-Electronics Research Laboratories |
第 2 著者 氏名(和/英) | 浅井 周二 / Shuji ASAI |
第 2 著者 所属(和/英) | NEC ULSIデバイス開発研究所 NEC ULSI Device Development Laboratories |
第 3 著者 氏名(和/英) | 前多 正 / Tadashi MAEDA |
第 3 著者 所属(和/英) | NEC光エレクトロニクス研究所 NEC Opto-Electronics Research Laboratories |
第 4 著者 氏名(和/英) | 藤井 正浩 / Masahiro FUJII |
第 4 著者 所属(和/英) | NEC光エレクトロニクス研究所 NEC Opto-Electronics Research Laboratories |
第 5 著者 氏名(和/英) | 大野 泰夫 / Yasuo OHNO |
第 5 著者 所属(和/英) | NEC光エレクトロニクス研究所 NEC Opto-Electronics Research Laboratories |
発表年月日 | 1997/6/20 |
資料番号 | ED97-63 |
巻番号(vol) | vol.97 |
号番号(no) | 109 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 7 |
発行日 |