講演名 1997/5/23
ダイヤモンド膜のパルス放電プラズマCVDによる作製と膜質の制御
野田 三喜男,
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抄録(和) DCプラズマCVDでダイヤモンド膜を作成する場合に,放電をパルス化することにより膜質を制御することができた.パルスの繰り返し周期を長くすることと,デューティ比を小さくすることにより結晶性をよくすることができた.放電開始時における電流ピークの形成と,放電後の放電しない時間を長くすることによっても膜質を改善することができた.これらの結果は,結晶性の改善が,放電開始時に電子温度の高い電子が形成されることと,放電していないときに非ダイヤモンド成分がエッチングにより除去されることに起因していることを示唆している.
抄録(英) When the diamond films were prepared by DC plasma CVD, their crystalline quality (CQ) could be controlled by means of pulsation of the discharge. The CQ could be superior by increasing the pulse repetition period and decreasing the duty ratio. Formation of the current peak at the beginning of the discharge (BD) and increase of the non-discharge time (Tn) after the discharge were also effective for improving CQ. These results suggest that the improvement of CQ is results in both the formation of electrons of very high temperature at BD and the etching of non-diamond components during Tn.
キーワード(和) プラズマCVD / ダイヤモンド膜 / パルス放電 / 膜質の制御 / 繰り返し周期 / デューティ比
キーワード(英) plasma CVD / diamond film / pulsed discharge / crystalline quality repetition period / duty ratio
資料番号 SDM97-15
発行日

研究会情報
研究会 SDM
開催期間 1997/5/23(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Silicon Device and Materials (SDM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) ダイヤモンド膜のパルス放電プラズマCVDによる作製と膜質の制御
サブタイトル(和)
タイトル(英) Formation and Structural Control of Diamond Film by Pulsed Discharge Plasma CVD
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) プラズマCVD / plasma CVD
キーワード(2)(和/英) ダイヤモンド膜 / diamond film
キーワード(3)(和/英) パルス放電 / pulsed discharge
キーワード(4)(和/英) 膜質の制御 / crystalline quality repetition period
キーワード(5)(和/英) 繰り返し周期 / duty ratio
キーワード(6)(和/英) デューティ比
第 1 著者 氏名(和/英) 野田 三喜男 / Mikio NODA
第 1 著者 所属(和/英) 愛知教育大学 総合科学課程 総合理学コース 物質科学領域(物性科学)
Integrated Natural Sciences, Aichi University of Education
発表年月日 1997/5/23
資料番号 SDM97-15
巻番号(vol) vol.97
号番号(no) 68
ページ範囲 pp.-
ページ数 7
発行日