講演名 1993/6/18
陽極酸化アルミナレジスト膜を用いたサブミクロン電極の作製と弾性表面波デバイスへの応用
山之内 和彦, 目黒 敏靖, 我妻 康夫, 小田川 裕之, 山本 圭一,
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抄録(和) デバイスの高周波化に伴う超徴細電極の作製法として有効である、陽極酸化アルミナレジスト膜を用いた電極作製プロセスを示している。本方法は、非常に薄いフォトレジスト或いは電子線レジストを用いて微細パターンを露光現象した後、露出した金属膜の表面を陽極酸化などにより、エッチング液に侵されにくい誘電体酸化膜に変化させ、この誘電体膜をレジスト膜として用いてエッチングを行うものである。本方法を用いると、露光の際のレジストは耐エッチング性のものである必要はなく膜厚を非常に薄くでき、微細パターン作製が可能となる。本方法についての検討及びこの電極を用いたGHz帯の弾性表面波デバイスについて述べており、0.1μmの線幅のAl電極を作製している。
抄録(英) Sub-micon lithography technology is very important for high density integrated circuits and higher frequency-range SAW devices. The frequency range of mobile communication systems are now in 1 GHz and in extending to 2~4 GHz.Moreover SAW devices require the f requency range of around 10 GHz.In this paper,we propose a new lithography techniques of sub-micron electrodo width.The electrodes are fabricated by using very thin anodic oxidation films as resists and wet or dry etching techniques.The results show the 0.1μm width IDT with thickness of about 0.03μm on 128゜Y- X LiNbO_3.Also,new lithography technologies are applied to 1~2 GHz filters using the unidirectional transducer.
キーワード(和) ナノメータ / 微細加工 / 陽極酸化 / すだれ状電極 / 弾性表面波 / 低損 失フィルタ
キーワード(英) Nano-meter / Fine-Lithography / Anodic Oxidation / Inter- Digital Transducer / Surface Acoustic Wave / Low-Loss Filter
資料番号 US93-16,CPM93-30
発行日

研究会情報
研究会 US
開催期間 1993/6/18(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Ultrasonics (US)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 陽極酸化アルミナレジスト膜を用いたサブミクロン電極の作製と弾性表面波デバイスへの応用
サブタイトル(和)
タイトル(英) Sub-micron electrode fabrication thechnology using anodic oxidation resist and application to SAW devices.
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) ナノメータ / Nano-meter
キーワード(2)(和/英) 微細加工 / Fine-Lithography
キーワード(3)(和/英) 陽極酸化 / Anodic Oxidation
キーワード(4)(和/英) すだれ状電極 / Inter- Digital Transducer
キーワード(5)(和/英) 弾性表面波 / Surface Acoustic Wave
キーワード(6)(和/英) 低損 失フィルタ / Low-Loss Filter
第 1 著者 氏名(和/英) 山之内 和彦 / Kazuhiko Yamanouchi
第 1 著者 所属(和/英) 東北大学電気通信研究所
Research Institute of Electrical Communication,Tohoku University
第 2 著者 氏名(和/英) 目黒 敏靖 / Toshiyasu Meguro
第 2 著者 所属(和/英) 東北大学電気通信研究所
Research Institute of Electrical Communication,Tohoku University
第 3 著者 氏名(和/英) 我妻 康夫 / Yasuo Wagatsuma
第 3 著者 所属(和/英) 東北大学電気通信研究所
Research Institute of Electrical Communication,Tohoku University
第 4 著者 氏名(和/英) 小田川 裕之 / Hiroyuki Odagawa
第 4 著者 所属(和/英) 東北大学電気通信研究所
Research Institute of Electrical Communication,Tohoku University
第 5 著者 氏名(和/英) 山本 圭一 / Keiichi Yamamoto
第 5 著者 所属(和/英) 東北大学電気通信研究所
Research Institute of Electrical Communication,Tohoku University
発表年月日 1993/6/18
資料番号 US93-16,CPM93-30
巻番号(vol) vol.93
号番号(no) 95
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日