| 講演名 | 2001/1/17 Arプラズマを用いたYBaCuO積層型接合の作製 金田 孝彦, 山田 寿一, 佐藤 弘, 山本 寛, 赤穂 博司, |
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| 抄録(和) | YBaCuO積層型接合の特性制御のため、下部電極にrf-Arプラズマ処理を行ったc軸配向YBaCuO/PrBaCuO/YBaCuO積層型接合を作製した。接合はRSJ的電流-電圧特性を示し、臨界電流が外部磁場に対して変調することからジョセフソン接合であることが分かった。Arプラズマ処理を施してない積層型接合の臨界電流Jc(平均670A/cm^2)に比較して、Arプラズマ処理によりJ_cが1.6×10^3A/cm^2と向上した。また、ECRプラズマ処理したバリアを持つYBaCuO積層型接合を試作した結果、かなり小さいジョセフソン効果を示す事が分かった。 |
| 抄録(英) | We have fabricated c-axis oriented YBaCuO/PrBaCuO/YBaCuO trilayer junctions with Ar plasma treatment for the base YBaCuO films. The junctions showed RSJ-like current-voltage characteristics, and a modulation of critical current by external magnetic field. The junctions with Ar plasma treatment have a larger Josephson critical current density J_c of 1.6kA/cm^2, compared to the junction without Ar plasma treatment with J_c of 670A/cm^2. It is suggested that the Ar plasma treatment can be used to improve the junction properties. We have also reported the preliminary result of YBaCuO trilayer junction with ECR-plasma-treatment barriers, which showed the small, however, Josephson effect. |
| キーワード(和) | Arプラズマ処理 / c軸配向 / ジョセフソン接合 / YBCO積層型接合 |
| キーワード(英) | Ar plasma treatment / c-axis orientation / Josephson junction / YBaCuO trilayer junction |
| 資料番号 | SCE2000-38 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SCE |
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| 開催期間 | 2001/1/17(から1日開催) |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Superconductive Electronics (SCE) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | Arプラズマを用いたYBaCuO積層型接合の作製 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Fabrication of c-axis Oriented YBaCuO Trilayer Junction with Ar Plasma Treatment |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | Arプラズマ処理 / Ar plasma treatment |
| キーワード(2)（和/英） | c軸配向 / c-axis orientation |
| キーワード(3)（和/英） | ジョセフソン接合 / Josephson junction |
| キーワード(4)（和/英） | YBCO積層型接合 / YBaCuO trilayer junction |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 金田 孝彦 / Takahiro Kaneda |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 日本大学 Nihon university |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 山田 寿一 / Toshikazu Yamada |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 産業技術融合領域研究所 National Institute for Advanced Interdisciplinary Research |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 佐藤 弘 / Hiroshi Sato |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 電子技術総合研究所 Electrotechnical Laboratory |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 山本 寛 / Hiroshi Yamamoto |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 日本大学 Nihon university |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 赤穂 博司 / Hiroshi Akoh |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 電子技術総合研究所 Electrotechnical Laboratory |
| 発表年月日 | 2001/1/17 |
| 資料番号 | SCE2000-38 |
| 巻番号（vol） | vol.100 |
| 号番号（no） | 572 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |