講演名 2000/10/20
Nb/Al-AlO_x/Nbジョセフソン接合を用いたBi_2Sr_2CaCu_2O_8+δジョセフソンプラズマの検出
山田 靖幸, 植松 裕, 水柿 義直, 中島 健介, 山下 努,
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抄録(和) 我々は、BSCCO単結晶上とSi上にNb/Al-AlO_x/Nb接合を作製した。そのI-V特性を測定した結果、どちらもRSJ的なジョセフソン接合特性が得られ、BSCCO上のNb/Al-AlO_x/Nb接合にのみ、ステップ状の特異構造が見られた。このステップ幅に対応する周波数は約50~60GHzとなり、アンダードープのBSCCOのプラズマ周波数に近いものとなった。また、このステップ構造の原因は、フィスケ共振、BSCCO-Nb間のLC共振のような現象では説明できないため、ステップ構造の出現の原因は、BSCCOのジョセフソンプラズマとNb/Al-AlO_x/Nb接合の交流ジョセフソン電流が相互作用することによるものと判断できる。
抄録(英) We fabricated Nb/Al-AlO_x/Nb Josephson junctions on ab-plane of Bi_2Sr_2CaCuO8+δ(BSCCO)single crystals to detect the Josephson plasma in BSCCO. We also fabricated Nb/Al-AlO_x/Nb Josephson junctions on Si wafer as references. Both junctions showed resistively shunted junction properties. Only for the junctions on BSCCO single crystals, we have observed clear periodic step structure on the current-voltage properties. A characteristic frequency corresponding to the voltage spacing for the step structure is about 50~60 GHz, which is in a good agreement with the Josephson plasma frequency of an underdoped BSCCO. It is implied that the Josephson plasma in BSCCO interacts with the ac Josephson current of the closely coupled Nb/Al-AlO_x/Nb Josephson junctions.
キーワード(和) ジョセフソンプラズマ / Bi_2Sr_2CaCu_2O8+δ / Nb/Al-AlO_x/Nb / ジョセフソン接合
キーワード(英) Josephson Plasma / Bi_2Sr_2CaCu_2O8+δ / Nb/Al-AlO_x/Nb / Josephson junction
資料番号 SCE2000-30
発行日

研究会情報
研究会 SCE
開催期間 2000/10/20(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Superconductive Electronics (SCE)
本文の言語 JPN
タイトル(和) Nb/Al-AlO_x/Nbジョセフソン接合を用いたBi_2Sr_2CaCu_2O_8+δジョセフソンプラズマの検出
サブタイトル(和)
タイトル(英) Josephson Plasma in Bi_2Sr_2CaCu_2O_8+δ detected by Nb/Al-AlO_x/Nb Junction
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) ジョセフソンプラズマ / Josephson Plasma
キーワード(2)(和/英) Bi_2Sr_2CaCu_2O8+δ / Bi_2Sr_2CaCu_2O8+δ
キーワード(3)(和/英) Nb/Al-AlO_x/Nb / Nb/Al-AlO_x/Nb
キーワード(4)(和/英) ジョセフソン接合 / Josephson junction
第 1 著者 氏名(和/英) 山田 靖幸 / Y Yamada
第 1 著者 所属(和/英) 東北大通研
Research Institute of Electrical Communication, Tohoku University
第 2 著者 氏名(和/英) 植松 裕 / Y Uematsu
第 2 著者 所属(和/英) 東北大通研, 科技団・戦略研
Research Institute of Electrical Communication, Tohoku University New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University
第 3 著者 氏名(和/英) 水柿 義直 / Y Mizugaki
第 3 著者 所属(和/英) 東北大通研, 科技団・戦略研
Research Institute of Electrical Communication, Tohoku University New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University
第 4 著者 氏名(和/英) 中島 健介 / K Nakajima
第 4 著者 所属(和/英) 東北大通研, 科技団・戦略研
Research Institute of Electrical Communication, Tohoku University New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University
第 5 著者 氏名(和/英) 山下 努 / T Yamashita
第 5 著者 所属(和/英) 東北大未来セ, 科技団・戦略研
CREST, Japan Science and Technology Corporation New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University
発表年月日 2000/10/20
資料番号 SCE2000-30
巻番号(vol) vol.100
号番号(no) 399
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日