| 講演名 | 1994/4/20 集束イオンビームを用いた酸化物超伝導体のサブミクロン加工 : YBaCuOサブミクロンラインの超伝導特性評価 楠 正暢, 赤池 宏之, 藤巻 朗, 早川 尚夫, |
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| 抄録(和) | 酸化物超伝導体の特性劣化を起こすことなく、デイープサブミクロン加工する技術を開発してきた。この技術によって180nm幅のYBaCuOラインの作成が可能となり、さらにそれは良好な超伝導性を示した。リソグラフィーは、集束イオンビームを用いたNb膜の微細加工法(Focused ion beam Implanted Niobium Patterning:FINP)にもとづいている。解像度100nmをもつこの技術によって微細なNbマスクを形成することができる。その後マスクパターンは、ArイオンビームエッチングにてAu, YBaCuO層に転写される。このようにして得られたラインにおける臨界電流密度の加工線幅依存性から、イオンビームエッチング時の冷却が劣化領域軽減のためには重要であることが明らかとなった。 |
| 抄録(英) | We have developed a deep submicrometer pattening technology of high critical temperature superconducting,films without degradation.The technology enabled us to patten a YBaCuO strip line with width of 180 nm.The line showed good superconducivity. The lithography technique is based on the Focused ion beam Implanted Niobium Patterning (FINP) method.We made Nb mask pattern using the technique which is expect to be 100 nm resolution.The patterns are transferred into the Au, YBaCuO layer in an Ar ion beam etching (IBE) step.Dependence on critical current density of line width systematically showed the importance of cooling to decrease the degradation of YBaCuO in the IBE. |
| キーワード(和) | ディープサブミクロン加工 / YBaCuO / FINP / リソグラフィー / 膜質劣化 / 冷却 |
| キーワード(英) | deep submicrometer patterning / YBaCuO / FINP / lithography / degradation / cooling |
| 資料番号 | SCE94-8,MW94-8 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SCE |
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| 開催期間 | 1994/4/20(から1日開催) |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Superconductive Electronics (SCE) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 集束イオンビームを用いた酸化物超伝導体のサブミクロン加工 : YBaCuOサブミクロンラインの超伝導特性評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Submicrometer patterning technique of oxide superconducting thin films using focused ion beam-Superconductivity of YBaCuO submicrometer line |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | ディープサブミクロン加工 / deep submicrometer patterning |
| キーワード(2)（和/英） | YBaCuO / YBaCuO |
| キーワード(3)（和/英） | FINP / FINP |
| キーワード(4)（和/英） | リソグラフィー / lithography |
| キーワード(5)（和/英） | 膜質劣化 / degradation |
| キーワード(6)（和/英） | 冷却 / cooling |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 楠 正暢 / Masanobu Kusunoki |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 名古屋大学工学部電子科 Department of Electronics,Faculty of Engineering,Nagoya University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 赤池 宏之 / Hiroyuki Akaike |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 名古屋大学工学部電子科 Department of Electronics,Faculty of Engineering,Nagoya University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 藤巻 朗 / Akira Fujimaki |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 名古屋大学工学部電子科 Department of Electronics,Faculty of Engineering,Nagoya University |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 早川 尚夫 / Hisao Hayakawa |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 名古屋大学工学部電子科 Department of Electronics,Faculty of Engineering,Nagoya University |
| 発表年月日 | 1994/4/20 |
| 資料番号 | SCE94-8,MW94-8 |
| 巻番号（vol） | vol.94 |
| 号番号（no） | 8 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |