| 講演名 | 1998/7/28 誘導結合プラズマスパッタリング法による基板両面YBCO薄膜の均一性の評価 楠 正暢, 鈴木 敏幸, 向田 昌志, 大嶋 重利, |
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| 抄録(和) | 誘導結合プラズマスパッタリング法を用いて基板両面への大面積YBa_2Cu_3O_y(YBCO)薄膜作製技術の検討を行った。基板両面のYBCOの臨界温度Tc、結晶性はほぼ同一であった。膜質の面内均一性は50x50mm基板を10x10mmの格子状に区切り各位置で評価を行った。膜厚分布は直径50mmのターゲットを用いたにもかかわらず、直径40mm以上の膜面内で10%のばらつき納まっていた。c軸長は1.1683～1.1693nm、Tcは83.0～85.5K、77Kでの臨界電流密度はJcは1.7～1.8MA/cm^2であった。比較的広い面では均一と判断されるが、各位置でのc軸長、Tc、Jcの相関が明確でないことなどから、ミクロな領域で、結晶性、不純物などの不均一を生じていることが予想される。 |
| 抄録(英) | A fabrication technique for large area and both-side YBa_2Cu_3O_y thin films using inductive conpled plasma sputtering is discussed. The critical temperature Tc and the crystallinity of the film deposited on one side were almost the same as those of the film deposited on the other side. To investigate the uniformity of a film, a 50x50 sq.mm.substrate was cut into 10x10 sq.mm.cells. Thickness variations within 10% were obtained over an area with diameter larger than 40 mm., even when using a 50-mm diameter target. The values of the c-axis length, Tc, and critical current density at 77K were found to range from 1.1683～1.1693nm, 83.0～85.5 K, and 1.7～1.8mA/cm^2, respectively.The film was relatively homogeneous on a large area. On the other hand, the distribution of the Tc's does not correspond with that of the c-axis lengths obtained over various areas of the film. This indicates that microscopic inhomogeneity such as crystallinity or impurity could possibly exist in the film. |
| キーワード(和) | 誘導結合プラズマスパッタリング / YBa_2Cu_3O_y / 大面積 / 基板両面薄膜 / 均一性 |
| キーワード(英) | Inductive coupled plasma sputtering / YBa_2Cu_3O_y / Large area / both-side film / uniformity |
| 資料番号 | SCE98-16 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SCE |
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| 開催期間 | 1998/7/28(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Superconductive Electronics (SCE) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 誘導結合プラズマスパッタリング法による基板両面YBCO薄膜の均一性の評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Investigation of the uniformity of both-side YBCO thin films fabricated by inductive conpled plasma sputtering |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 誘導結合プラズマスパッタリング / Inductive coupled plasma sputtering |
| キーワード(2)（和/英） | YBa_2Cu_3O_y / YBa_2Cu_3O_y |
| キーワード(3)（和/英） | 大面積 / Large area |
| キーワード(4)（和/英） | 基板両面薄膜 / both-side film |
| キーワード(5)（和/英） | 均一性 / uniformity |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 楠 正暢 / Masanobu Kusunoki |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 山形大学工学部 Faculty of Engineering, Yamagata University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 鈴木 敏幸 / Toshiyuki Suzuki |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 山形大学工学部 Faculty of Engineering, Yamagata University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 向田 昌志 / Masasi Mukaida |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 山形大学工学部 Faculty of Engineering, Yamagata University |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 大嶋 重利 / Shigetoshi Ohshima |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 山形大学工学部 Faculty of Engineering, Yamagata University |
| 発表年月日 | 1998/7/28 |
| 資料番号 | SCE98-16 |
| 巻番号（vol） | vol.98 |
| 号番号（no） | 222 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |