講演名 1993/7/26
断面TEMによるAlOx,ZrOxおよびHfOxをバリアとするニオブ接合の界面考察
諸橋 信一, 蓮尾 信也,
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抄録(和) 断面TEMによって、Nb, AlOx-Al/Nb,Nb/ZrOx-Zr/Nbおよび、Nb/HfOx-Hf/Nb接合の比較検討をおこない、オーバーレイア構造を持つニオブ接合の界面考察をおこなった。Nb下部電極とZr層および、NbとHf層の界面は、NbとAlの界面より平滑だった。NbとAlの界面の乱れは、Nb下部電極本来の乱れではなく、Al堆積後の、NbとAlとの粒界拡散による。NbとAlの界面の乱れは、熱処理によって増大したが、NbとZrあるいは、NbとHfの界面はほとんど変化が見られなかった。これらの界面の違いは、オーバーレイアの融点の違いによると考えられる。
抄録(英) Using cross-sectional transmission electron microscopy,we compared Nb, AlOx-Al/Nb junction with Nb/ZrOx-Zr/Nb and Nb/HfOx-Hf/ Nb junctions,and studied the interfaces of Nb Josephson junctions with an overlayer structure.The interface between the Zr layer and Nb base electrode,and that between the Hf layer and Nb were smoother than that between the Al layer and Nb.The roughness of the interface between Al and Nb is caused by not the roughness of the original Nb base electrode but grain boundary diffusion following Al deposition.Annealing increaged the roughness of the interface between Al and Nb,but had very little effects on the interfaces between Zr and Nb,or Hf and Nb.We attribute these effects to the differences in the melting points of the various overlayers.
キーワード(和) ジョセフソン接合 / 断面TEM
キーワード(英) Josephson junction / Cross-sectional Transmission Electron Microscopy
資料番号 SCE93-28
発行日

研究会情報
研究会 SCE
開催期間 1993/7/26(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Superconductive Electronics (SCE)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 断面TEMによるAlOx,ZrOxおよびHfOxをバリアとするニオブ接合の界面考察
サブタイトル(和)
タイトル(英) Interfacial Study of Nb Josephson Junctions with AlOx,ZrOx and HfOx barriers by Cross-sectional Transmission Electron Microscopy
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) ジョセフソン接合 / Josephson junction
キーワード(2)(和/英) 断面TEM / Cross-sectional Transmission Electron Microscopy
第 1 著者 氏名(和/英) 諸橋 信一 / Shinichi Morohashi
第 1 著者 所属(和/英) 富士通厚木研究所
FUJITSU LABORATORIES LTD.
第 2 著者 氏名(和/英) 蓮尾 信也 / Shinya Hasuo
第 2 著者 所属(和/英) 富士通厚木研究所
FUJITSU LABORATORIES LTD.
発表年月日 1993/7/26
資料番号 SCE93-28
巻番号(vol) vol.93
号番号(no) 166
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日