講演名 1993/7/26
YBaCuO/PrBaCuO/YBaCuO接合における接合界面特性
木村 浩, 大豆生田 利章, 宮崎 祐行, 岡部 洋一,
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抄録(和) YBCO, PBCO/YBCO接合はPBCOの厚いバリア層を通って超伝導電流が観測され、長距離の近接効果として注目されている。この接合のもう一つの特徴は常伝導状態においても接合抵抗がバルクの抵抗値より低くなることが挙げられる。われわれは平面型の素子をFIBを用いて作成して接合中のPBCO層の抵抗を測定し、やはりバルクの値より2桁以上も低いことを検出した。更に同様な結果をPBCO単膜についても観測した。このPBCOの低抵抗化はYの拡散やPBCOの組成ずれが原因なのではなく、PBCO膜作成時の冷却過程に起因していると考えられる。すなわちPBCO中の酸素の問題が低抵抗化の原因ではないかと我々は考えている。
抄録(英) A supercurrent has been observed through a thick barrier layer which had similar crystal structure to oxide superconductor.It has been also observed that the junction resistances in these junction were lower than bulk resistances of barrier material.We fabricated YBa2CU3Ox(YBCO), PrBa2Cu3Ox(PBCO)planar type junction by focused ion beam(FIB)technique.The resistivity of PBCO in the junction was lower than that of single PBCO film.Because no evidence of an interdiffusion between YBCO and PBCO could be observed by AES measurement,we paid attention to the effect of oxygen concentration on the resistivity of the PBCO film.The PBCO film with the lower resistivity was formed by the changing cooling process.This result suggests that oxygen of the film play important role in the low resistivity.
キーワード(和) PBCO / 冷却過程 / 準安定状態 / 低抵抗化 / 長距離近接効果 / 平面 型素子
キーワード(英) PBCO / Cooling Process / Metastable state / Low Resistivity / Long Range Proximity / Planar Type Junction
資料番号 SCE93-20
発行日

研究会情報
研究会 SCE
開催期間 1993/7/26(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Superconductive Electronics (SCE)
本文の言語 JPN
タイトル(和) YBaCuO/PrBaCuO/YBaCuO接合における接合界面特性
サブタイトル(和)
タイトル(英) Properties of Interface in YBaCuO/PrBaCuO/YBaCuO Junction
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) PBCO / PBCO
キーワード(2)(和/英) 冷却過程 / Cooling Process
キーワード(3)(和/英) 準安定状態 / Metastable state
キーワード(4)(和/英) 低抵抗化 / Low Resistivity
キーワード(5)(和/英) 長距離近接効果 / Long Range Proximity
キーワード(6)(和/英) 平面 型素子 / Planar Type Junction
第 1 著者 氏名(和/英) 木村 浩 / Hiroshi Kimura
第 1 著者 所属(和/英) 東京大学先端科学技術研究センター
Research Center for Advanced Science and Technology,The University of Tokyo.
第 2 著者 氏名(和/英) 大豆生田 利章 / Toshiyuki Ohmameuda
第 2 著者 所属(和/英) 東京大学先端科学技術研究センター
Research Center for Advanced Science and Technology,The University of Tokyo.
第 3 著者 氏名(和/英) 宮崎 祐行 / Masayuki Miyazaki
第 3 著者 所属(和/英) 東京大学先端科学技術研究センター
Research Center for Advanced Science and Technology,The University of Tokyo.
第 4 著者 氏名(和/英) 岡部 洋一 / Yoichi Okabe
第 4 著者 所属(和/英) 東京大学先端科学技術研究センター
Research Center for Advanced Science and Technology,The University of Tokyo.
発表年月日 1993/7/26
資料番号 SCE93-20
巻番号(vol) vol.93
号番号(no) 166
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日