講演名 1997/7/30
スパッタリングによるYBCO薄膜作製時の誘導コイルの効果 : 誘導コイル結合型スパッタリング
楠 正暢, 高野 祥暢, 大嶋 重利,
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抄録(和) 酸化物高温超伝導薄膜の大面積化技術として, 誘導コイル結合型スパッタリング法の検討を行った. 直径50mmのターゲットを用いてYBa_2Cu_3O_yの成膜を行ったところ, 基板の直径40mmの範囲内で膜厚分布が7%未満であり, 広範囲で均一な成膜が可能であることが示された. また, 臨界温度・薄膜表面の析出物はカソード電圧に支配され, 結晶の配向性・グレインサイズはカソード電流により決定されることが確認された. この2つの成膜パラメーターはコイルに印可するrf電力を変化させることによってそれぞれ独立に最適値を与えることが可能になるため, 誘導コイルの導入が膜質改善の面でも有効に働くことが明らかになった.
抄録(英) Authors report on an induction-coil-coupled sputtering technique allowing the deposition of large area high-Tc superconducting thin films. This technique was proven to be able to produce uniform thin films over large areas. Uniformity in film thickness of below 7% was obtained over an area of 40-mm diameter using a 50-mm diameter YBCO target. The induction coil also played an important role in determining the qualities of YBCO thin films. The critical temperature and the density of particles on the surface of the films were influenced by the cathode voltage. On the other hand, the orientation and the grain size of the film were influenced by the cathode current. Using conventional sputtering, the cathode voltage and current cannot be varied independently, however, in this system, variation is possible by means of controlling the applied power of the induction coil.
キーワード(和) 誘導コイル結合型スパッタリング / 大面積化 / YBCO薄膜 / 膜厚分布 / 膜質
キーワード(英) induction-coil-sputtering / large area / YBCO thin film / uniformity / qualities
資料番号 sce97-24
発行日

研究会情報
研究会 SCE
開催期間 1997/7/30(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Superconductive Electronics (SCE)
本文の言語 JPN
タイトル(和) スパッタリングによるYBCO薄膜作製時の誘導コイルの効果 : 誘導コイル結合型スパッタリング
サブタイトル(和)
タイトル(英) Effects of induction coil to YBCO thin films in sputtering : Induction-coil-coupled sputtering
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 誘導コイル結合型スパッタリング / induction-coil-sputtering
キーワード(2)(和/英) 大面積化 / large area
キーワード(3)(和/英) YBCO薄膜 / YBCO thin film
キーワード(4)(和/英) 膜厚分布 / uniformity
キーワード(5)(和/英) 膜質 / qualities
第 1 著者 氏名(和/英) 楠 正暢 / Masanobu KUSUNOKI
第 1 著者 所属(和/英) 山形大学工学部
Faculty of Engineering, Yamagata University
第 2 著者 氏名(和/英) 高野 祥暢 / Yoshinobu TAKANO
第 2 著者 所属(和/英) 山形大学工学部
Faculty of Engineering, Yamagata University
第 3 著者 氏名(和/英) 大嶋 重利 / Shigetoshi OHSHIMA
第 3 著者 所属(和/英) 山形大学工学部
Faculty of Engineering, Yamagata University
発表年月日 1997/7/30
資料番号 sce97-24
巻番号(vol) vol.97
号番号(no) 219
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日