| 講演名 | 2001/6/1 垂直磁気記録方式における熱減磁を考慮した記録過程の解析 黒田 敦子, 西田 靖孝, 中村 敦, 高野 公史, 成重 眞治, 青井 基, |
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| 抄録(和) | 従来の、セルフコンシステント磁化計算により磁化転移パラメータを算出し記録磁化状態を仮定するという手法において、温度や記録周波数などを考慮していないことに起因する誤差を調べるために、これらを考慮した記録過程の解析を試みた。本解析では、磁化反転のエネルギー障壁が熱エネルギーより高い場合と低い場合に対して個別の周波数因子を定義し、Langevin法による磁化曲線の保磁力の磁界掃引周波数依存性を近似した。単磁極ヘッドと二層膜媒体を組み合わせた場合の磁界プロファイルを用いて記録計算を行った結果、線記録密度の上昇、すなわち、記録周波数の上昇とともに磁化転移パラメータは減少し、高周波領域では、低周波記録における孤立磁化転移の線形重畳に比べて磁化の振幅が大きくなることがわかった。 |
| 抄録(英) | We analyzed the write process considering temperature and write frequency to determine the difference from the conventional self-consistent analysis. The extended Neel-Arrhenius type model with two different time constants for high and low energy barrier can approximate the coercive field versus frequency of hysteresis loop calculated by the method of Langevin equation. As the linear density becomes higher, the transition parameter becomes smaller and the amplitude of written pattern becomes larger compared to the superposition of the isolated transition. |
| キーワード(和) | 垂直磁気記録 / 記録過程 / 熱減磁 / 二層垂直媒体 / 磁化転移パラメータ |
| キーワード(英) | perpendicular magnetic recording / write process / thermal fluctuation / double-layered media / transition parameter |
| 資料番号 | MR2001-10 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | MR |
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| 開催期間 | 2001/6/1(から1日開催) |
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| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Magnetic Recording (MR) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 垂直磁気記録方式における熱減磁を考慮した記録過程の解析 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Analysis of write process considering thermal fluctuation in perpendicular magnetic recording |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 垂直磁気記録 / perpendicular magnetic recording |
| キーワード(2)（和/英） | 記録過程 / write process |
| キーワード(3)（和/英） | 熱減磁 / thermal fluctuation |
| キーワード(4)（和/英） | 二層垂直媒体 / double-layered media |
| キーワード(5)（和/英） | 磁化転移パラメータ / transition parameter |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 黒田 敦子 / A. Kuroda |
| 第 1 著者 所属（和/英） | (株)日立製作所中央研究所 Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd. |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 西田 靖孝 / Y. Nishida |
| 第 2 著者 所属（和/英） | (株)日立製作所中央研究所 Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd. |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 中村 敦 / A. Nakamura |
| 第 3 著者 所属（和/英） | (株)日立製作所中央研究所 Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd. |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 高野 公史 / H. Takano |
| 第 4 著者 所属（和/英） | (株)日立製作所中央研究所 Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd. |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 成重 眞治 / S. Narishige |
| 第 5 著者 所属（和/英） | (株)日立製作所ストレージシステム事業部 Data Storage & Retrieval System Div., Hitachi, Ltd. |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 青井 基 / H. Aoi |
| 第 6 著者 所属（和/英） | (株)日立製作所ストレージシステム事業部 Data Storage & Retrieval System Div., Hitachi, Ltd. |
| 発表年月日 | 2001/6/1 |
| 資料番号 | MR2001-10 |
| 巻番号（vol） | vol.101 |
| 号番号（no） | 106 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |