| 講演名 | 1998/7/17 誘導結合型プラズマを用いたスパッタ法で作成したCo-Cr垂直磁気ディスク 池田 朋広, 山本 節夫, 栗巣 普揮, 松浦 満, |
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| 抄録(和) | 誘導結合型プラズマ(ICP)生成法とマグネトロンスパッタ法を組み合わせたスパッタ装置を用いて、Co-Cr垂直磁気ディスクを作製した。このスパッタ装置において、ICPへの投入電力を変化させた場合の、プラズマ状態、作製したCo-Cr磁気ディスクの磁気特性・表面状態・記録特性などについて調べた。ICPへの投入電力と基板バイアス電圧によって、プラズマ中のイオンの量と基板を照射するイオンの加速電圧を、通常のマグネトロンスパッタ装置よりも広範囲に変化できることが明らかになった。また、ICP投入電力を増すにつれてスパッタ時のプラズマ密度が増すために成膜速度が増加し、ギャップ長が0.2μmのMIGヘッドを用いて接触記録を行なった場合に、高い再生電圧と180kFRPIを越えるD_<50>が得られた。 |
| 抄録(英) | A novel sputtering apparantus using a magnetron sputtering cathode and inductively-coupled-plasma(ICP) generation was built to use in Co-Cr film deposition. The effects of ICP RF power supply on the plasma condition, the morphology, magnetic properties and recording characteristics of Co-Cr perpendicular magnetic anisotropy disks were clarified. The ion density and ion acceleration voltage can be widely changed by ICP RF power and substrate bias voltage. As the ICP RF power was increased, the deposition rate was increased and high reproduced voltage and high D_<50> above 180kFRPI were obtained when a MIG head with gaplength of 0.2μm was used. |
| キーワード(和) | 誘導結合型プラズマ / スパッタ成膜法 / ICP / Co-Cr膜 / 垂直磁気記録 |
| キーワード(英) | Inductively-coupled-plasma / Sputtering deposition / ICP / Co-Cr films / Perpendicular magnetic recording |
| 資料番号 | MR98-14 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | MR |
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| 開催期間 | 1998/7/17(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Magnetic Recording (MR) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 誘導結合型プラズマを用いたスパッタ法で作成したCo-Cr垂直磁気ディスク |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Co-Cr Perpendicular Magnetic Recording Disks Prepared by Sputtering Using ICP |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 誘導結合型プラズマ / Inductively-coupled-plasma |
| キーワード(2)（和/英） | スパッタ成膜法 / Sputtering deposition |
| キーワード(3)（和/英） | ICP / ICP |
| キーワード(4)（和/英） | Co-Cr膜 / Co-Cr films |
| キーワード(5)（和/英） | 垂直磁気記録 / Perpendicular magnetic recording |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 池田 朋広 / Tomohiro IKEDA |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 山口大学工学部機能材料工学科 Advanced Materials Science and Engineering, Faculty of Engineering, Yamaguchi University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 山本 節夫 / Setsuo YAMAMOTO |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 山口大学工学部機能材料工学科 Advanced Materials Science and Engineering, Faculty of Engineering, Yamaguchi University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 栗巣 普揮 / Hiroki KURISU |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 山口大学工学部機能材料工学科 Advanced Materials Science and Engineering, Faculty of Engineering, Yamaguchi University |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 松浦 満 / Mitsuru MATSUURA |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 山口大学工学部機能材料工学科 Advanced Materials Science and Engineering, Faculty of Engineering, Yamaguchi University |
| 発表年月日 | 1998/7/17 |
| 資料番号 | MR98-14 |
| 巻番号（vol） | vol.98 |
| 号番号（no） | 182 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 7 |
| 発行日 | |