講演名 1995/10/12
低基板温度で作製した斜め蒸着 Co-Cr 膜の磁気特性
矢野 亮, 小川 容一, 河野 真理子,
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抄録(和) 斜め蒸着法により作製したCo-Cr系蒸着膜の磁気特性と膜構造について調べた。室温程度の低い基板温度で作製した斜め蒸着Co-Cr膜は、1000 Oe以上の保磁力と6000 Oe以上の異方性磁界を示した。膜中には多量の酸素が取り込まれていること、この酸素は主にCrと結合しCr酸化物を形成していることが観測された。これより、膜内ではCrリッチな非磁性酸化物部とCoリッチな強磁性金属部からなる組成偏析が生じていると推測される。この組成偏析効果と、自己陰影効果によって生じる物理的な分離効果が合わさり、磁性粒子間の磁気的結合が弱まったために比較的高い保磁力が得られたと考えられる。
抄録(英) Magnetic properties of obliquely evaporated Co-Cr films prepared at low substrate temperature were investigated. It was found that, even at room temperature, Co-Cr films having a coercivity more than 1000 Oe and an anisotropy field more than 6000 Oe could be obtained. Auger electron spectroscopy and X-ray photoelectron analysis revealed that a large amount of oxygen was incorporated in the films and the oxygen preferentially combined with Cr. These results suggest that the compositional segregation consist of nonmagnetic Cr oxide region and ferromagnetic Co-enriched region occurs in the films. The high coercivity and anisotropy field of the films were considered to originate from the compositional segregation in addition to physical separation by the self-shadowing effect.
キーワード(和) 斜め蒸着 / Co-Cr膜 / 低温作製 / 保磁力 / 優先酸化 / 組成偏析
キーワード(英) obliquely evaporated film / Co-Cr film / low temperature deposition / coercivity / preferential oxidation / compositional segregation
資料番号 MR95-32
発行日

研究会情報
研究会 MR
開催期間 1995/10/12(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Magnetic Recording (MR)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 低基板温度で作製した斜め蒸着 Co-Cr 膜の磁気特性
サブタイトル(和)
タイトル(英) Magnetic properties of obliquely evaporated Co-Cr films prepared at low substrate temperature
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 斜め蒸着 / obliquely evaporated film
キーワード(2)(和/英) Co-Cr膜 / Co-Cr film
キーワード(3)(和/英) 低温作製 / low temperature deposition
キーワード(4)(和/英) 保磁力 / coercivity
キーワード(5)(和/英) 優先酸化 / preferential oxidation
キーワード(6)(和/英) 組成偏析 / compositional segregation
第 1 著者 氏名(和/英) 矢野 亮 / Akira Yano
第 1 著者 所属(和/英) 日立マクセル 技術研究所
Engineering Research Laboratory, Hitachi Maxell, Ltd.
第 2 著者 氏名(和/英) 小川 容一 / Yoichi Ogawa
第 2 著者 所属(和/英) 日立マクセル 技術研究所
Engineering Research Laboratory, Hitachi Maxell, Ltd.
第 3 著者 氏名(和/英) 河野 真理子 / Mariko Kawano
第 3 著者 所属(和/英) 日立マクセル 技術研究所
Engineering Research Laboratory, Hitachi Maxell, Ltd.
発表年月日 1995/10/12
資料番号 MR95-32
巻番号(vol) vol.95
号番号(no) 288
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日