講演名 | 1995/6/16 CoCrTaおよびCoCrPt薄膜媒体の磁気粘性とノイズ特性 山中 一助, 山本 朋生, 棚橋 究, 稲葉 信幸, 細江 譲, 上坂 保太郎, 二本 正昭, |
---|---|
PDFダウンロードページ | PDFダウンロードページへ |
抄録(和) | スパッタ磁気ディスクのノイズを磁気特性から評価、予測するため、磁気粘性を測定した。磁気ディスクから切り出した試料は磁化が非常に小さいため、テープ媒体に使用してきた従来法では測定精度が低い。そこで、測定法につき検討し、レマネンス保磁力の磁場印加時間依存性から揺らぎ場を求める方法を開発した。この方法は精度がよく、再現性に優れている。この方法により、磁性膜の保磁力、飽和磁化などの静磁気特性がノイズに及ぼす影響は少なく、ノイズは主として活性化体積と単位体積あたりの飽和磁化との積に依存することが判明した。 |
抄録(英) | The correlation between magnetic viscosity and medium noise in CoCrTa and CoCrPt longitudinal thin-film media was investigated by measuring the time dependence of remanence coercivity Hr and the read/write characteristics. The media were prepared by dc magnetron sputtering under various conditions. Fluctuation fields H_f of magnetic viscosity at H/H_r=1 were obtained from the slopes of Hr versus In t plots. Medium noise decreases with kT/H_f (=the product of activation volume and saturation magnetization per unit volume). Medium noise thus primarily depends on the size of the minimum unit of the magnetic moment in reversal. |
キーワード(和) | 磁気ディスク / ノイズ / 磁気粘性 / 活性化体積 / CoCrTa / CoCrPt |
キーワード(英) | magnetic viscosity / medium noise / thin film / remanence coercivity / CoCrTa / CoCrPt |
資料番号 | |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | MR |
---|---|
開催期間 | 1995/6/16(から1日開催) |
開催地(和) | |
開催地(英) | |
テーマ(和) | |
テーマ(英) | |
委員長氏名(和) | |
委員長氏名(英) | |
副委員長氏名(和) | |
副委員長氏名(英) | |
幹事氏名(和) | |
幹事氏名(英) | |
幹事補佐氏名(和) | |
幹事補佐氏名(英) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Magnetic Recording (MR) |
---|---|
本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | CoCrTaおよびCoCrPt薄膜媒体の磁気粘性とノイズ特性 |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | Magnetic Viscosity and Noise in Hard-disk Media |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | 磁気ディスク / magnetic viscosity |
キーワード(2)(和/英) | ノイズ / medium noise |
キーワード(3)(和/英) | 磁気粘性 / thin film |
キーワード(4)(和/英) | 活性化体積 / remanence coercivity |
キーワード(5)(和/英) | CoCrTa / CoCrTa |
キーワード(6)(和/英) | CoCrPt / CoCrPt |
第 1 著者 氏名(和/英) | 山中 一助 / K. Yamanaka |
第 1 著者 所属(和/英) | 日立製作所中央研究所 Central Research Laboratory, Hitachi Ltd. |
第 2 著者 氏名(和/英) | 山本 朋生 / T. Yamamoto |
第 2 著者 所属(和/英) | 日立製作所中央研究所 Central Research Laboratory, Hitachi Ltd. |
第 3 著者 氏名(和/英) | 棚橋 究 / K. Tanahashi |
第 3 著者 所属(和/英) | 日立製作所中央研究所 Central Research Laboratory, Hitachi Ltd. |
第 4 著者 氏名(和/英) | 稲葉 信幸 / N. Inaba |
第 4 著者 所属(和/英) | 日立製作所中央研究所 Central Research Laboratory, Hitachi Ltd. |
第 5 著者 氏名(和/英) | 細江 譲 / Y. Hosoe |
第 5 著者 所属(和/英) | 日立製作所中央研究所 Central Research Laboratory, Hitachi Ltd. |
第 6 著者 氏名(和/英) | 上坂 保太郎 / Y. Uesaka |
第 6 著者 所属(和/英) | 日立製作所中央研究所 Central Research Laboratory, Hitachi Ltd. |
第 7 著者 氏名(和/英) | 二本 正昭 / M. Futamoto |
第 7 著者 所属(和/英) | 日立製作所中央研究所 Central Research Laboratory, Hitachi Ltd. |
発表年月日 | 1995/6/16 |
資料番号 | |
巻番号(vol) | vol.95 |
号番号(no) | 91 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 7 |
発行日 |