講演名 1995/11/23
E-Beam Evaporated Co/Cr and Co/Mo Multilayer Thin Films
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抄録(和)
抄録(英) Co/Cr and Co/Mo multilayer thin films deposited by the e-beam evaporating method have an alternating layered structure. The structure of films with thicker Co layers than Cr and Mo layers are found to be a hcp structure with the c-axis normal to the film plane. The direction of the film plane is the easy magnetization one. There is a no significant difference in shape of hysteresis loops between Co/Cr and Co/Mo multilayer films. Mo layer is more effective than Cr for preparing Co layer with c-axis normal to the film plane.
キーワード(和)
キーワード(英) Co/Cr multilayer / Co/Mo multilayer / E-beam evaporation / hcp / Alternating layered structure / hysteresis loops
資料番号 MR95-54
発行日

研究会情報
研究会 MR
開催期間 1995/11/23(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Magnetic Recording (MR)
本文の言語 ENG
タイトル(和)
サブタイトル(和)
タイトル(英) E-Beam Evaporated Co/Cr and Co/Mo Multilayer Thin Films
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) / Co/Cr multilayer
第 1 著者 氏名(和/英) / S.K. Lee
第 1 著者 所属(和/英)
Dept. of Materials Science and Engineering, Kangwon National University
発表年月日 1995/11/23
資料番号 MR95-54
巻番号(vol) vol.95
号番号(no) 383
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日