講演名 | 1999/3/19 Pigment-dispersed Color Resist with High Resolution for Advanced Color Filter Application , |
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抄録(和) | |
抄録(英) | A positive working pigment-dispersed color resist comprising organic pigments and a chemically amplified resist system is designed for high resolution color filter with fine patterns of less than 5μm lines and spaces. It also shows high brightness and good color reproducibility. An acrylic binder including acid labile group and aromatic function group that have both functions of acid catalysed unblocking and good compatibility with pigments is also synthesized. |
キーワード(和) | |
キーワード(英) | Pigment-dispersed Color Resist / color filter / positive photoresist / Chemically amplified |
資料番号 | EID98-272 |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | EID |
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開催期間 | 1999/3/19(から1日開催) |
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講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Electronic Information Displays (EID) |
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本文の言語 | ENG |
タイトル(和) | |
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タイトル(英) | Pigment-dispersed Color Resist with High Resolution for Advanced Color Filter Application |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | / Pigment-dispersed Color Resist |
第 1 著者 氏名(和/英) | / Rong Jer Lee |
第 1 著者 所属(和/英) | Associate Researcher Materials Research Lab./ITRI |
発表年月日 | 1999/3/19 |
資料番号 | EID98-272 |
巻番号(vol) | vol.98 |
号番号(no) | 666 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 5 |
発行日 |