講演名 1999/3/19
Pigment-dispersed Color Resist with High Resolution for Advanced Color Filter Application
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抄録(和)
抄録(英) A positive working pigment-dispersed color resist comprising organic pigments and a chemically amplified resist system is designed for high resolution color filter with fine patterns of less than 5μm lines and spaces. It also shows high brightness and good color reproducibility. An acrylic binder including acid labile group and aromatic function group that have both functions of acid catalysed unblocking and good compatibility with pigments is also synthesized.
キーワード(和)
キーワード(英) Pigment-dispersed Color Resist / color filter / positive photoresist / Chemically amplified
資料番号 EID98-272
発行日

研究会情報
研究会 EID
開催期間 1999/3/19(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Electronic Information Displays (EID)
本文の言語 ENG
タイトル(和)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Pigment-dispersed Color Resist with High Resolution for Advanced Color Filter Application
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) / Pigment-dispersed Color Resist
第 1 著者 氏名(和/英) / Rong Jer Lee
第 1 著者 所属(和/英)
Associate Researcher Materials Research Lab./ITRI
発表年月日 1999/3/19
資料番号 EID98-272
巻番号(vol) vol.98
号番号(no) 666
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日