講演名 1999/3/19
Effect of Parasitic Resistance on Mobility in Laser Crystallized LT poly-Si TFTs
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抄録(和)
抄録(英) Effect of parasitic resistance (Rp) on the mobility in laser-crystallized low-temperature (LT) poly-Si thin film transistors (TFTs) of various channel lengths was investigated. The minimum off current at Vd=10V in these TFTs is scaleable and is about 0. 15 pA/μm. Significant reduction of mobility was observed in short channel devices due to porasitic resistance. Based on our analysis of the Rp requirement for high-performance short-channel LT poly-Si TFTs, to avoid significant degradation in the mobility for the mobility larger than 300 cm^2/Vs, it 's necessary to keep Rp below 200 ohm.
キーワード(和)
キーワード(英) LT poly-Si TFT / parasitic resistance / excimer laser / mobilty reduction / contact resistance / channel length
資料番号 EID98-256
発行日

研究会情報
研究会 EID
開催期間 1999/3/19(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Electronic Information Displays (EID)
本文の言語 ENG
タイトル(和)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Effect of Parasitic Resistance on Mobility in Laser Crystallized LT poly-Si TFTs
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) / LT poly-Si TFT
第 1 著者 氏名(和/英) / Shih-Chang Chang
第 1 著者 所属(和/英)
Electronics Research and Service Organization Industrial Technology Research Institute
発表年月日 1999/3/19
資料番号 EID98-256
巻番号(vol) vol.98
号番号(no) 666
ページ範囲 pp.-
ページ数 4
発行日