講演名 1999/3/19
金属誘導横向結晶薄膜晶体管的表観閾値電圧的降低
王 文, Bhat Gururaj A., 郭 海城,
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抄録(和) 在傳統的自対准金属誘導横向結晶("MILC"=metal induced lateral crystallization)薄膜晶体管("TFT"=thin film transistor)結構中、覆蓋于源漏區之上的誘導金属一方面将溝道區由兩側誘導横向結晶(MILC)、〓一方面誘導源漏區本身金属誘導晶化("MIC"=metal induced crystallization)、從而在MILC溝道區与MIC源漏區之間形成明確的晶界。本文表明這些溝道區邊縁的MILC/MIC晶界的存在将影響TFT的表観閾値電壓(apparent V_T); 将這些MILC/MIC晶界從源漏的結區消除、或者対其進行〓气鈍化処理、都可以有効地降低V_T。
抄録(英) In conventional metal-induced-laterally crystallized (MILC) thin film transistors (TFTs), the source and drain regions are crystallized by metal-induced crystallization (MIC) self-aligned to the edges of the gate electrodes. A distinct grain boundary exists at the border between the MILC and the MIC regions. It will be shown that the apparent threshold voltage (V_t) of the MILC TFTS is affected by the presence of these MILC/MIC grain boundaries (MMGBs) at the edges of the transistor channels. Furthermore, V_t can be reduced either by eliminating the MMGBs from both the source and drain junctions or by hydrogen passivation of the traps in the MMGBs.
キーワード(和) 導横向結晶(MILC) / 薄膜晶体管 / MILC/MIC晶界
キーワード(英) Metal induced lateral crystallization / thin film transistor / MILC/MIC grain boundaries
資料番号 EID98-254
発行日

研究会情報
研究会 EID
開催期間 1999/3/19(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
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副委員長氏名(和)
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幹事氏名(和)
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幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Electronic Information Displays (EID)
本文の言語 ENG
タイトル(和) 金属誘導横向結晶薄膜晶体管的表観閾値電圧的降低
サブタイトル(和)
タイトル(英) Reduction of Threshold Voltage in Metal-Induced-Laterally-Crystallized Thin Film Transistors
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 導横向結晶(MILC) / Metal induced lateral crystallization
キーワード(2)(和/英) 薄膜晶体管 / thin film transistor
キーワード(3)(和/英) MILC/MIC晶界 / MILC/MIC grain boundaries
第 1 著者 氏名(和/英) 王 文 / Man Wong
第 1 著者 所属(和/英) 香港科技大學電机及電子工程系,顯示器中心
Center for Display Research & Department of Electrical and Electronic Engineering, The Hong Kong University of Science and Technology
第 2 著者 氏名(和/英) Bhat Gururaj A. / Gururaj A. Bhat
第 2 著者 所属(和/英) 香港科技大學電机及電子工程系,顯示器中心
Center for Display Research & Department of Electrical and Electronic Engineering, The Hong Kong University of Science and Technology
第 3 著者 氏名(和/英) 郭 海城 / Hoi S. Kwok
第 3 著者 所属(和/英) 香港科技大學電机及電子工程系,顯示器中心
Center for Display Research & Department of Electrical and Electronic Engineering, The Hong Kong University of Science and Technology
発表年月日 1999/3/19
資料番号 EID98-254
巻番号(vol) vol.98
号番号(no) 666
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日